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71.
采用射频磁控溅射法在玻璃衬底上制备掺镁氧化锌薄膜,利用SEM(扫描电镜)、XRD(X射线衍射)和椭偏仪等设备研究薄膜的表面形貌、成分、结构和厚度.结果表明,溅射功率没有对薄膜的生长方向产生较大影响,当溅射功率在40 W到100 W之间变化时,随着溅射功率的增大薄膜的结晶状况变好,晶粒尺寸变大,薄膜的厚度增加.  相似文献   
72.
溅射镀膜技术采用高能粒子轰击靶材,溅射出的粒子重新沉积凝聚在固体表面形成薄膜,这种技术在现代薄膜材料制备过程中得到广泛应用。本文阐述了目前直接利用辉光放电中产生的离子进行溅射镀膜技术在单原子金属、半导体材料、绝缘材料、化合物薄膜材料制备工艺的研究进展以及展望。  相似文献   
73.
金属化高级装饰面砖的工艺研究   总被引:1,自引:0,他引:1  
本工艺研究是用磁控溅射镀膜法在釉面砖表面先镀金属膜,然后采用磁控溅射反应镀法在刚镀制的金属膜上镀一层透明的氧化膜.根据光学干涉成色原理,控制氧化膜的厚度从而获得具有金属光泽各种颜色的金属化高级装饰面砖.  相似文献   
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