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应用于微纳光子器件的立体光刻研究进展
引用本文:吴琦,梁艳明,周建英.应用于微纳光子器件的立体光刻研究进展[J].湖南科技学院学报,2010,31(4):42-46.
作者姓名:吴琦  梁艳明  周建英
作者单位:中山大学光电材料与技术国家重点实验室,广东,广州,510275
摘    要:本文概述了光刻技术的广泛应用并探讨其今后的发展方向,分析比较了几种常见立体光刻技术的优缺点,重点介绍了全息光刻技术在制备光子晶体方面的应用,并总结了我们小组的研究成果。

关 键 词:光刻  立体光刻  全息光刻  光子晶体
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