应用于微纳光子器件的立体光刻研究进展 |
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引用本文: | 吴琦,梁艳明,周建英.应用于微纳光子器件的立体光刻研究进展[J].湖南科技学院学报,2010,31(4):42-46. |
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作者姓名: | 吴琦 梁艳明 周建英 |
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作者单位: | 中山大学光电材料与技术国家重点实验室,广东,广州,510275 |
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摘 要: | 本文概述了光刻技术的广泛应用并探讨其今后的发展方向,分析比较了几种常见立体光刻技术的优缺点,重点介绍了全息光刻技术在制备光子晶体方面的应用,并总结了我们小组的研究成果。
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关 键 词: | 光刻 立体光刻 全息光刻 光子晶体 |
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