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| 溅射法制备纳米硅薄膜研究进展 | |
| 引用本文： | 袁珂,黄强,郝会颖.溅射法制备纳米硅薄膜研究进展[J].中国科技信息,2008(15). |
| 作者姓名： | 袁珂 黄强 郝会颖 |
| 作者单位： | 1. 中国地质大学(北京)材料科学与工程学院,100083 2. 中国地质大学(北京)信息工程学院,100083 |
| 基金项目： | 中国地质大学(北京)大学生创新性实验计划项目专项基金 |
| 摘 要： | 纳米硅(nc-Si:H)薄膜被视为新型硅基薄膜太阳能电池的核心材料.本文从溅射工艺,沉积过程、结构特征方面对溅射法制备纳米硅薄膜的研究进展作了综述. |
| 关 键 词： | 纳米硅薄膜 溅射 制备 |
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