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添加剂和升温速度对Si_3N_4陶瓷显微结构的影响
引用本文:李柳生.添加剂和升温速度对Si_3N_4陶瓷显微结构的影响[J].洛阳工业高等专科学校学报,1996(1).
作者姓名:李柳生
作者单位:洛阳工业高等专科学校材料工程系
摘    要:本文研究了添加剂种类和升温速度对气压烧结Si_3N_4陶瓷显微结构的影响。结果表明:只加入Sc_2O_3,升温速度对β—Si_3N_4晶体生长影响甚微。同时加入Sc_2O_3和ZrO_2,升温速度对β—Si_3N_4的晶体形貌影响显著。慢速升温可有效地提高β-Si_3N_4晶体的长径比,并形成长径比大的大晶体镶嵌在细小晶体群之中的显微结构。

关 键 词:氮化硅  显微结构  长径比

Effects of Additives and Heating Rates on the Microstructures of Si_3N_4 Materials
Li Liusheng Luoyang Technology College H.-J.Kleebe,G.Ziegler IMA,Universitat Bayreuth,FRG.Effects of Additives and Heating Rates on the Microstructures of Si_3N_4 Materials[J].Journal of Luoyang Technology College,1996(1).
Authors:Li Liusheng Luoyang Technology College H-JKleebe  GZiegler IMA  Universitat Bayreuth  FRG
Abstract:
Keywords:Si3N4  Microstructure  Aspect ratio  
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