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| 砂仁叶片光合作用光抑制及其防御 | |
| 引用本文： | 唐晓黎.砂仁叶片光合作用光抑制及其防御[J].思茅师范高等专科学校学报,2001,17(3):86-89. |
| 作者姓名： | 唐晓黎 |
| 作者单位： | 思茅师范高等专科学校,热作八班,云南,思茅,665000 |
| 摘 要： | 用脉冲叶绿素荧光仪测定砂仁叶片叶绿素荧光参数的日变化及阻止卷叶对其影响后发现Fv/Fm、Fv'/Fm'、Fm、Fv、Fm/Fo、Fv/Fo随光强的增加而降低,中午达到最低值后随光强的减弱而升高,Fo则一直在降低,NPQ、qN及qE-fast和qE-slow随光强的增加而升高;阻止卷叶后荧光参数的日变化更明显,光合放氧量子效率也降低.结论光抑制条件下砂仁叶片通过热耗散,卷叶等保证光合机构不被破坏. |
| 关 键 词： | 叶绿素荧光 光抑制 热耗散 卷叶 砂仁 |
| 文章编号： | 1008-8059(2001)03-0086-04 |
| 修稿时间： | 2001年1月24日 |
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