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直流磁控溅射的应用概述
引用本文:
李丽.直流磁控溅射的应用概述[J].职业技术,2011(9):120.
作者姓名:
李丽
作者单位:
齐齐哈尔工程学院;
摘 要:
磁控溅射是物相沉积镀膜中较为常用的一种方法。本文介绍了磁控溅射中比较基础的溅射方式——直流磁控溅射,说明了磁控溅射相对于其他物相沉积的优势以及工作原理,重点强调了直流磁控溅射的工作流程。
关 键 词:
直流磁控溅射
镀膜
基底
工作流程
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