Stress Analysis of the Glass Bulb of 35－inch（V） 120° Color Picture Tube

ＳｔｒｅｓｓＡｎａｌｙｓｉｓｏｆｔｈｅＧｌａｓｓＢｕｌｂｏｆ３５－ｉｎｃｈ（Ｖ）１２０°ＣｏｌｏｒＰｉｃｔｕｒｅＴｕｂｅＴｏｒｏｎｇｅｙＰｅｔｅｒＫｉｍａｎｕｓ（ＭｏｉＵｎｉｖｅｒｓｉｔｙ，ＤｅｐａｒｔｍｅｎｔｏｆＰｈｙｓｉｃｓ，Ｐ．Ｏ．Ｂｏｘ３９０...     

全国各级成人学校基本情况

全国各级成人学校基本情况ＢａｓｉｃＳｔａｔｉｓｔｉｃｓｏｆＡｄｕｌｔＳｃｈｏｏｌｓｉｎＣｈｉｎａｂｙＬｅｖｅｌ＆Ｔｙｐｅ￥／／（Ａ）：Ｏｆｔｈｅｔｏｔａｌ：ＴｈｅＲｅｇｕｌａｒＳｈｏｒｔ－ＣｙｃｌｅＣｏｕｒｓｅｓｉｎＲａｄｉｏ／ＴＶＵｎｉｖｅｒｓｉｔ...     

LOCAL INFLUENCE ANALYSIS BASED ON THE K－L DISTANCE AND THE INFORMATION DISTANCE

ＬＯＣＡＬＩＮＦＬＵＥＮＣＥＡＮＡＬＹＳＩＳＢＡＳＥＤＯＮＴＨＥＫ－ＬＤＩＳＴＡＮＣＥＡＮＤＴＨＥＩＮＦＯＲＭＡＴＩＯＮＤＩＳＴＡＮＣＥＨｕＹｕｅｑｉｎｇ（胡跃清）（ＤｅｐａｒｔｍｅｎｔｏｆＭａｔｈｅｍａｔｉｃｓａｎｄｍｅｃｈａｎｉｃｓ）ＬＯＣＡＬＩ...     

BIFURCATION ANALYSIS OF THESTEADY-STATE MODEL FOR A MULTIJUNCTION DEVICE

ＡＢＩＦＵＲＣＡＴＩＯＮＡＮＡＬＹＳＩＳＯＦＴＨＥＳＴＥＡＤＹ－ＳＴＡＴＥＭＯＤＥＬＦＯＲＡＭＵＬＴＩＪＵＮＣＴＩＯＮＤＥＶＩＣＥＣａｏＪｕｎｃｈｅｎｇ（曹俊诚）；ＷｅｉＴｏｎｇｌｉ（魏同立）（ＭｉｃｒｏｅｌｅｃｔｒｏｎｉｃｓＣｅｎｔｅｒ）ＷａｎｇＹ...     

S.T. Coleridge──An Imaginary Poet

Ｓ．Ｔ．Ｃｏｌｅｒｉｄｇｅ──ＡｎＩｍａｇｉｎａｒｙＰｏｅｔ￥ＣｕｉＳｈｕｚｈｅｎＳａｍｕｅｌＴａｙｌｏｒＣｏｌｅｒｉｄｇｅ（１７７２－１８３４）ｉｓｏｎｅｏｆｔｈｅｇｒｅａｔｅｓｔｒｏｍａｎｔｉｃｐｏｅｔｓｉｎｅａｒｌｙｎｉｎｅｔｅｅｎｔｈ－ｃｅｎ...     

Adaptive Consistent Parameter Estimation for Non－Gaussian MA Processes Using 4th Order Cumulant

ＡｄａｐｔｉｖｅＣｏｎｓｉｓｔｅｎｔＰａｒａｍｅｔｅｒＥｓｔｉｍａｔｉｏｎｆｏｒＮｏｎ－ＧａｕｓｓｉａｎＭＡＰｒｏｃｅｓｓｅｓＵｓｉｎｇ４ｔｈＯｒｄｅｒＣｕｍｕｌａｎｔＷａｎｇＸｉｎｗｅｎ（王新文）ＨｅＺｈｅｎｙａ（何振亚）（Ｄｅｐａｒｔｍｅｎｔｏｆ...     

Flexural Behaviour of High－Strength Steel Fiber－Reinforced Concrete Beams

ＦｌｅｘｕｒａｌＢｅｈａｖｉｏｕｒｏｆＨｉｇｈ－ＳｔｒｅｎｇｔｈＳｔｅｅｌＦｉｂｅｒ－ＲｅｉｎｆｏｒｃｅｄＣｏｎｃｒｅｔｅＢｅａｍｓＱｉａｎＣｈｕｎｘｉａｎｇ（钱春香）（ＤｅｐａｒｔｍｅｎｔｏｆＭａｔｅｒｉａｌｓＳｃｉｅｎｃｅａｎｄＥｎｇｉｎｅｅｒｉ...     

信息世界

微软推出ＭＳＤＮ和ＴｅｃｈＮｅｔＭｉｃｒｏｓｏｆｔＭＳＤＮ和ＭｉｃｒｏｓｏｆｔＴｅｃｈＮｅｔ是微软公司两项面向不同对象的付费基于只读光盘（ＣＤ－ＲＯＭ）的订购产品。ＭｉｃｒｏｓｏｆｔＭＳＤＮ产品分为三个级别,开发库是软件开发者必备的最新最全的资料;...     

High－Performance Network Communications for CSCW

Ｈｉｇｈ－ＰｅｒｆｏｒｍａｎｃｅＮｅｔｗｏｒｋＣｏｍｍｕｎｉｃａｔｉｏｎｓｆｏｒＣＳＣＷＳｏｎｇＪｕｎ（宋军）ＧｕＧｕａｎｑｕｎ（顾冠群）（ＤｅｐａｒｔｍｅｎｔｏｆＣｏｍｐｕｔｅｒＳｃｉｅｎｃｅａｎｄＥｎｇｉｎｅｅｒｉｎｇ，ＳｏｕｔｈｅａｓｔＵｎｉ...     

系列有机硅化合物在297±2K温度下与OH、NO_3根及O_3的气态反应的动力学

目前已确定了［（ＣＨ３）４Ｓｉ）、［（ＣＨ３）３ＳｉＯＳｉ（ＣＨ３）３ＳｉＯ－）］、［（－（ＣＨ３）２ＳｉＯ－）３）、［（－（ＣＨ３）２ＳｉＯ－４）及［（－（ＣＨ３）２ＳｉＯ－）５］在２９７±２Ｋ温度下与ＯＨ、ＮＯ３根及Ｏ３的气态反应的速度常数。它们与ＯＨ根ＮＯ３根及Ｏ３的气态反应的速度常数分别为（单位为ｃｍ３／克分子·秒）：［（ＣＨ３）４Ｓｉ］：１．００±１０－１２，＜８×１０－１７，＜７×１０－２１；［（ＣＨ３）３ＳｉＯ（ＣＨ３）３〕：１．３８×１０－１２，＜８×１０－１７，＜７×１０－２１；［（－（ＣＨ３）２ＳｉＯ－）３］：５．２×１０－１３，＜２×１０－１６，＜３×１０－２０；［（－（ＣＨ３）２ＳｉＯ－）４］：１．０１×１０－１２，＜２×１０－１６，＜３×１０－２０；［（－（ＣＨ３）２ＳｉＯ－）５〕：１．５５×１０－１２，＜３×１０－１６，＜３×１０－２０。对于这些化合物的对流层迁移过程，它们与ＮＯ３根及Ｏ３的反应是无关紧要的。在对流层中，这些易挥发的有机硅化合物因与ＯＨ根反应而引起的计算寿命的变化范围为从［（－（ＣＨ３）２ＳｉＯ－）５）的１０天到［（－（ＣＨ３）２ＳｉＯ－〕３］的３０天。     

Epitaxial Growth of YSZ as Bufer Layers for High Tc Superconducting Filmson Si Substrates

ＥｐｉｔａｘｉａｌＧｒｏｗｔｈｏｆＹＳＺａｓＢｕｆｅｒＬａｙｅｒｓｆｏｒＨｉｇｈＴｃＳｕｐｅｒｃｏｎｄｕｃｔｉｎｇＦｉｌｍｓｏｎＳｉＳｕｂｓｔｒａｔｅｓＱｉａｎＷｅｎｓｈｅｎｇ（钱文生）ＬｉｕＲｏｎｇ（刘融）ＷｅｉＴｏｎｇｌｉ（魏同立）（Ｍｉｌｒｏｅ...     

Co-Pi和Cu2O共修饰TiO2薄膜及其光电化学性质研究

用阳极氧化法在Ti基片上制备出TiO2薄膜,然后通过电化学沉积法将Co-Pi和Cu2O沉积在TiO2薄膜表面.通过扫描电镜、X-射线衍射和光电化学性质测试,发现TiO2薄膜表面先沉积Co-Pi能够有效阻止Cu2O颗粒堆积,光电流显著提高.而先沉积Cu2O后沉积Co-Pi,则会使Cu2O还原为Cu,同时形貌发生改变.特别地,沉积300秒Co-Pi后再沉积Cu2O颗粒,能得到200 mA/cm2的最大光电流.     

Switching Phenomena of CuTCNQ Induced Mainly by the Interaction among Microcrystaline Grains

ＳｗｉｔｃｈｉｎｇＰｈｅｎｏｍｅｎａｏｆＣｕＴＣＮＱＩｎｄｕｃｅｄＭａｉｎｌｙｂｙｔｈｅＩｎｔｅｒａｃｔｉｏｎａｍｏｎｇＭｉｃｒｏｃｒｙｓｔａｌｉｎｅＧｒａｉｎｓＧｕＮｉｎｇａ１（顾宁）ＳｈｅｎｇＨａｏｙｉｎｇｂ（沈浩瀛）ＬｕＷｕａ１（鲁武）Ｐａｎ...     

Morphology and Structure Analyses of SnO2 Thin Film Coated on Al2O3 Ultrafine Particles by Gas Phase Reaction in Fluidized Bed

１　Ｉｎｔｒｏｄｕｃｔｉｏｎ　Ｔｉｎｄｉｏｘｉｄｅｆｉｌｍｓｈａｖｅｂｅｅｎｗｉｄｅｌｙｕｓｅｄａｓｃｏｎｄｕｃｔｉｖｅｅｌｅｃｔｒｏｄｅｓ,ｔｒａｎｓｐａｒｅｎｔｃｏａｔｉｎｇｓ,ａｎｄｈｅｔｅｒｏｊｕｎｃｔｉｏｎｓｏｌａｒｃｅｌｌｓ．ＳｎＯ２ｆｉｌｍｓｗｉｔｈｄｉｆｆｅｒｅｎｔｓｔｒｕｃｔｕｒｅｓｃａｎｂｅｃｏｎｓｔｒｕｃｔｅｄｂｙｃｈｅｍｉｃａｌｖａｐｏｒｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎｏｎｓｕｂｓｔｒａｔｅｓｏｆｄｉｆｆｅｒｅｎｔｔｅｍｐｅｒａｔｕｒｅｓ．ＡｂｏａｆａｎｄＭａｒｃｏｔｔｅ［１］ｐｒ…     

利用流化床气相反应在Al2O3超细粒子表面淀积SnO2薄膜的形态分析

Fluidized chemical vapor deposition (FCVD) technology was developed for coating SnO2 thin film on ultrafine Al2O3 particles.Transmission electron microscopy (TEM) and high-resolution electron microscopy (HREM) analyses demonstrated that SnO2 films with different structures were deposited through controlling the coating temperature, reactant concentration, etc.. Nanocrystalline SnO2 film was formed at 572.15K by gas phase reaction of SnCl4 and H2O.Electron probe microanalyser (EPMA) and energy dispersive spectrometer (EDS) analyses indicated that the distribution of nanocrystalline SnO2 over inner and outer part of the Al2O3 agglomerates was homogeneous.     

Cu在CoN和CoSiN薄膜中的扩散研究

利用磁控溅射的方法在n型硅基底制备了Cu／CoN／Si（100）和Cu／CoSiN／Si（100）薄膜,并对它们进行了不同温度的退火．用原子力显微镜观察了它们的表面形貌．用扫描透射电镜能谱分析法得到了在不同退火温度下铜在上面两种薄膜中浓度与表面距离的分布,然后利用菲克第二定律对Cu／CoN／Si和Cu／CoSiN／Si体系中cu的扩散进行了计算和分析,得出中温条件（300℃-700℃）下Cu在CoN和CoSiN两种薄膜中的扩散系数表达式分别为8．98×10^-13exp（-0．45eV／kT）cHf／s和5．39×10^-11exp（-0．49eV／kT）Cm2／s．     

Preparation of Nano-Particles （ Pb, La）TiO3 Thin Films by Liquid Source Misted Chemical Deposition

Nano-particles lanthanum-modified lead titanate (PLT) thin films are grown on Pt/Ti/SiO2/Si substrate by liquid source misted chemical deposition (LSMCD). PLT films are deposited for 4-8 times, and thenannealed at various temperature. XRD and SEM show that the prepared films have good crystallization behavior and perovskite structure. The crystallite is about 60nm. The deposition speed is 3nm/min. This deposition method can exactly control stoichiometry ratios, doping concentration ratio and thickness of PLT thin films. The best annealing process is to bake at 300℃ for 10min and anneal at 600℃ for 1h.     

衬底温度对Zn095Ca005O薄膜结构和光学性质的影响

利用磁控溅射法在玻璃基片上制备Zn095Ca005O薄膜,用X射线衍射（XRD）研究薄膜的结构特性,用LS920荧光光谱仪测量了样品薄膜的PL谱,探讨了衬底温度对薄膜结晶质量和光学性质的影响。研究发现,衬底温度对薄膜的质量影响较小,450℃时制备的薄膜结晶质量最好;不同衬底温度对发光峰强度有影响;薄膜在可见光区显示出较高的透过性,在350－400nm范围内薄膜透过率骤然下降,在该范围内存在吸收边。     

Ar/O_2比和基片温度对射频反应磁控溅射法制备钢基SiO_2薄膜亲水性的影响

在工作气压为1.9 Pa的氩氧气混合气氛中,改变氩氧的流量比和基片温度,采用射频反应磁控溅射法在不锈钢基片上制备了二氧化硅薄膜试样,并对薄膜的微观表面形貌和薄膜的亲水性进行表征.结果表明,在氩氧分压比为64和基片温度为90℃时制备的SiO2薄膜亲水性能最佳.     

常温H2S气敏薄膜的溶胶—凝胶制备及性能研究

以无机盐SnCl2·2H2O为主体原料,以Zn(CH3COO)2·2H2O2为掺杂剂,无水乙醇为溶剂,采用溶胶-凝胶（Sol-Gel)工艺制备了ZnO-SnO2薄膜;采用DTA-TG及XRD等分析手段研究了ZnO-SnO2薄膜的热分解和晶化过程,对ZnO-SnO2薄膜的结构进行了表征。研究了ZnO-SnO2薄膜的电学、气敏性能及机理。实验证明,ZnO-SnO2薄膜在常温下对H2S气体具有很好的气敏性能。