全自动真空磁控溅射镀膜仪研制

针对目前真空专业学生教学的需要,研制了全自动真空磁控溅射镀膜仪。详细介绍了镀膜仪6大部分的设计与制作。该镀膜仪具有占地面积小、功能齐全、功能拓展性强的特点,不仅能够服务于多门课程的教学实验,节约实验资源,而且为真空专业学生和教师提供了良好的创新实验平台,可开设多项专业实验和创新实验。     

机械泵-扩散泵二级真空系统常见故障的分析与排除

以日立公司ＨＵＳ－５ＧＢ镀膜仪为例,总结了归纳了机械泵－扩散泵二级真空系统的常见故障,逐一分析了它们的起因,并提出了相应的排除方法。     

溅射镀膜技术在薄膜材料制备上的研究进展

溅射镀膜技术采用高能粒子轰击靶材,溅射出的粒子重新沉积凝聚在固体表面形成薄膜,这种技术在现代薄膜材料制备过程中得到广泛应用。本文阐述了目前直接利用辉光放电中产生的离子进行溅射镀膜技术在单原子金属、半导体材料、绝缘材料、化合物薄膜材料制备工艺的研究进展以及展望。     

直流磁控溅射的应用概述

磁控溅射是物相沉积镀膜中较为常用的一种方法。本文介绍了磁控溅射中比较基础的溅射方式——直流磁控溅射,说明了磁控溅射相对于其他物相沉积的优势以及工作原理,重点强调了直流磁控溅射的工作流程。     

微波消解-等离子发射光谱法测定油墨样品中铅含量

采用微波消解和电热板消解2种方法前处理含氧化铁黄基体的油墨样品,再以萃取法去除样品中基体铁元素,最后用等离子发射光谱仪检测样品中Pb含量。该方法解决了以往该类样品中Pb元素检测时高干扰的问题。仪器检出限为0.02 mg/kg,方法检出限为0.08 mg/kg;方法的RSD为0.02;微波消解试验的加标回收率为95.2%,电热板消解试验的加标回收率为90.2%。建议该类产品Pb元素的定量检测采用微波消解法来前处理样品。     

溅射气压对Al掺杂ZnO薄膜光电性能的影响

采用射频磁控溅射技术,在常温状态下在玻璃衬底上制备了Al掺杂ZnO透明导电薄膜.利用XRD和AFM分别对薄膜的晶体结构和表面微观形貌进行了表征,利用紫外-可见分光光度计和霍尔效应测试仪对薄膜的光电性能进行了测试,并分析讨论了不同溅射气压对Al掺杂ZnO薄膜结构、形貌和光电性能的影响.结果表明,在本实验条件下制备的薄膜均为良好的c轴择优取向;在可见光范围内样品的平均透过率都高于85%;在溅射气压为1.2Pa时,薄膜的结晶度、电阻率和透过率都达到了最佳值.     

合金靶材择优溅射的SRIM模拟研究

利用SRIM2013软件,分别模拟计算了3组合金靶材Fe-Cr、Cu-Ni和Au-Ag在氩离子入射时的溅射产额,根据计算结果得出3组合金均存在择优溅射现象,择优溅射与金属原子的表面结合能有关的结论。同时模拟了 Au-Ag合金的溅射产额随入射离子能量和合金成分的变化情况,并分析其择优溅射机制。     

用光的干涉原理测定脉冲激光溅射产物的角分布

本实验将基础光学知识应用于激光溅射沉积（简称PLD）中对溅射产物的空间分布进行测量的研究，将此做为现代物理实验可以培养学生运用基础物理实验方法进行科学研究的素养。     

溅射功率对掺镁氧化锌薄膜结构及厚度的影响

采用射频磁控溅射法在玻璃衬底上制备掺镁氧化锌薄膜,利用SEM(扫描电镜)、XRD(X射线衍射)和椭偏仪等设备研究薄膜的表面形貌、成分、结构和厚度.结果表明,溅射功率没有对薄膜的生长方向产生较大影响,当溅射功率在40 W到100 W之间变化时,随着溅射功率的增大薄膜的结晶状况变好,晶粒尺寸变大,薄膜的厚度增加.     

磁控溅射法制备ZnO薄膜的光学特性分析

该文用磁控溅射法在蓝宝石衬底上生长了ZnO薄膜,所得薄膜采用X射线衍射仪（XRD）、原子力显微镜（AFM）、紫外可见分光光度计（UVS）、光致荧光光谱（PL）对样品的结构、形貌和发光特性进行表征.结果表明掺杂后的ZnO薄膜仍为六角纤锌矿结构,磁控溅射镀膜样品的透射边随着退火温度的提高发生蓝移又红移现象,所有样品都有比较好的发光性能;900℃溅射镀膜样品的表面形貌平整度较好,粒子分布均匀.