一维纳米材料的光电性能研究

纳米技术是20世纪80年代中期诞生并正在不断崛起的新兴科学技术,近年来纳米线、纳米棒、纳米带、纳米管等一维纳米结构成为研究的焦点.本文在对一维纳束材料种类和合成的研究的基础上,对其光电性能做出了一定的分析.     

乳化技术有助提升光电元器件性能

德国科学家利用超小乳化的方式,将两种高分子纳米微粒混合制成层状纳米结构,并且以该技术制造出有机太阳能电池,示范其优秀性能。 波茨坦(Potsdam)大学的Dieter     

氧气浓度对ZnO薄膜光电性能的影响

采用磁控溅射法镀制ZnO薄膜,通过椭偏仪和四探针测试仪分析了氧气浓度对薄膜光电性能的影响.结果表明:随着氧分压的增加,薄膜折射率呈变大的趋势,电阻率升高,导电性能降低.     

三偶氮颜料的合成及光电性能研究

本文合成了以４,４＇,４″－三氨基三苯胺为中间体的系列三偶氮化合物,对组成及结构进行了表征,以此化合物为电荷发生材料制备有机光电功能薄膜表现了较好的光电性能。     

酞菁氧钛单层有机光电导体性能研究

以聚合物包埋酞菁氧钛的光生载流子材料，α－萘苯腙为传输材料，然后将两者混合砂磨分散，再涂复到铝基上，制备层有机光导体，研究其光电导性能；着重讨论光 体的组份与光导性能的关系，结果表明单层光体的综合性能优于双层光电导体。     

Cu夹层厚度对ZnO薄膜的光电性能的影响

采用磁控溅射技术在玻璃基底上制备出了具有c轴择优取向的Cu夹层ZnO透明导电薄膜,利用几种表征手段分析了夹层厚度对ZnO薄膜的结构形貌、光电性能的影响。结果表明,随着夹层厚度的增加,薄膜的结晶性降低,透光率降低、电学性能增强。     

高性能碳纳米管光电器件和光电集成

当前,由于大多数光电器件的工艺与硅基电路不相匹配,致使其制备需要巨大的成本,且制备过程异常繁琐。本文就以碳纳米管制备材料为切入点,探讨高性能碳纳米管光电器件和光电集成的优化。     

光电技术

正200公里单光子三维成像中国科学技术大学潘建伟、徐飞虎等实现超过200公里的远距离单光子三维成像,将成像距离从10公里突破到百公里量级,在远距离目标识别、对地观测等领域开辟了新应用。相关成果发表于Optica。如何实现远距离单光子成像雷达是该领域的研究热点。研究团队搭建了全新的单光子雷达系统,并对整套光学系统进行光学镀膜(系统透过率提高2倍)等。     

光电研究院

中国科学院光电研究院(以下简称光电院)是中国科学院具有独立法人资格的直属事业单位(正局级),由总部、长春光学精密机械与物理研究所(简称长春光机所)、上海技术物理研究所(简称上海技物所)、西安光学精密机械研究所(简称西安光机所)、上海光学精密机械研究所(简称上海光机所)和(成都)光电技术研究所(简称成都光电所)组成。光电院于2000年开始筹建,2003年得到中编委正式批准。     

光电技术

通过增强荧光涨落检测实现高通量超分辨率成像哈尔滨工业大学仪器学院李浩宇团队在生物医学超分辨显微成像技术领域取得新进展。相关成果发表于《自然·光子学》（Nature Photonics）。针对目前超分辨显微镜所面临的成像通量限制,文章提出基于计算光学成像的新一代高通量三维动态超分辨率成像方法,通过计算成像技术增强荧光涨落探测灵敏度,使探测灵敏度提升两个数量级以上,突破了现有显微成像技术在高通量视场、高空间分辨率和高时间分辨率等难以兼顾的难题,将目前全球超分辨显微镜中最高通量视场成像范围提升至毫米级,在10分钟内,让包含超过2000个细胞的视场上实现了128纳米的超高空间分辨率成像,为细胞学异质性和生物医学等研究提供了新影像仪器。     

TiOPc—NiPc共混复合体系光电导性能的研究

合成了光生材料ＴｉＯＰｃ（酞菁氧钛）经元素分析,红外光谱的表征,着重讨论了ＴｉＯＰｃ－ＮｉＰｃ（酞菁镍）二元共混复合体系的光电导性能及载流子传输层的组成和厚度对光电导性能的影响,当光生层中共混复合物ＴｉＯＰｃ／ＮｉＰＣ为３／１,传输层中腙／ＰＣ为１／１．７,厚度为４０μ时,光电导体半衰时间为０．５０秒,光衰百分率为６７．８％,具有最佳的光电导性。