Mo/Al软X射线光学多层膜的结构及其热稳定性

利用四对靶溅射的方法制备了Mo/Al光学多层膜,通过X射线小角度掠射法（LAXD）、断面高分辨透射电镜（HREM）以及透射电镜（TEM）等分析手段,研究了该薄膜在在制备态及不同的退火温度下微结构及其热稳定性.结果表明：在制备态下,Mo和Al都为多晶结构,界面的混合层厚度与生长顺序有关系,不对称.随着退火温度的升高,多层膜呈现出周期延展,伴随峰增加.550℃以下,周期延展和出现了6级布拉格峰分别归结于晶粒的长大和退火增强了层间相关程度;550℃时,出现了Al-Mo非晶合金,有意思的是此时多层膜的界面粗糙度并没有增加,周期膨胀与450℃时候基本一致,仅层厚比发生了变化.而600℃时候,多层膜的周期结构则被完全破坏.     

Co/Ti及Co/Cu(Ni)纳米多层膜的微观结构与磁性(英文)

室温下采用对向靶溅射方法制备了[CoTi]30及[CoCu(Ni)]30两组多层膜,并用小角X射线衍射和振动样品磁强计等方法研究多层膜的结构和磁性.发现CoCu(Ni)多层膜中饱和磁化强度Ms随非磁性层厚度ds的增加发生振荡变化;而CoTi多层膜中,Ms随ds的增加而单调减小.当ds>3.0nm时,两组多层膜的饱和磁化强度均趋向稳定.研究表明,Ms随非磁性层厚度ds的不同变化是由多层膜层间耦合效应引起的,用RKKY耦合和超交换耦合竞争机制理论可成功地解释这种实验现象.     

(Fe21Ni79/TM/Cu/TM)30(TM=Ta,Cr,Cu)多层膜界面结构研究

用X射线散射的方法研究金属分隔的Py/Cu多层膜的界面结构,采用Ta,Cr,Cu等来分隔Py/Cu多层膜中的Py和Cu。     

同步辐射X射线在多层膜性能研究方面的应用

多层膜性能的优劣很大程度上取决于其周期结构,周期要求稳定、均匀,界面要求平滑、清晰。小角衍射方法可定性分析多层膜的周期性、周期厚度和界面平滑程度。同步辐射光源具有通量大、亮度高、频谱连续可调等优点,非常适合于这方面的研究。     

纳米Co/Fe/Cu合金的X射线衍射分析

通过X射线衍射和磁电阻测量，对快淬法制备的铸态和退火处理的Co15-xFexCu85(X＝0，3，6，9，12，15)系列样品颗粒合金进行了结构和输走性质的研究．发现了造成Co—Fe—Cu合金输运性质变化的Co、CoFe相分离过程，这结果与Co—Fe—Cu合金相图相一致．在快淬CoFeCu样品中磁电阻效应小于CoCu样品．条带是多晶体，颗粒尺寸为几百纳米．     

溅射气压对Ti/Al多层膜结构和热稳定性的影响

为研究Ti/Al多层膜的结构和热稳定性与溅射气压的关系,采用对向靶直流磁控溅射法在0.5、2.0 Pa的溅射气压下制备了Ti/Al软X射线光学多层膜(Λ=9.25 nm,Г=0.3,N=20),并采用低角度X射线衍射、高角度X射线衍射和原子力显微镜对其结构和热稳定性进行表征.发现:低溅射气压(0.5 Pa)下制备的多层膜具有相对高质量、有序的结晶层,导致了相对较小的表面粗糙度,热稳定性好;高溅射气压(2.0 Pa)下制备的多层膜周期性结构相对较差,晶向较为无序,表面粗糙度较大,结构热稳定性差.可见,Ti/Al多层膜的结构和热稳定性是溅射气压的函数,低溅射气压下制备的多层膜会获得更好的结构和热稳定性.     

磁性多层膜的发展概况

本文综述了由磁性和非磁性层交替重叠构成的金属磁性多层膜通常具有的界面磁各向异性、磁性层间耦合、维度效应、巨磁电阻效应,巨隧道效应等现象,由于界面原子的复杂结构以及磁性原子通过非磁性原子所发生的相互作用等因素使得磁性多层膜表现出丰富多采的性质,引起人们的极大兴趣。     

类氢高离化态软X射线谱精细计算的简捷方法

利用高离化态类氢离子电离能与电离度的关系及类氢离子的新势函数模型 ,对离子激发能级进行了相对论效应修正并计及了电子自旋轨道耦合的影响 .给出了计算高离化态类氢离子软X射线谱的简捷方法 ,计算结果与实验值吻合较好 .     

Co/Pt多层膜的铁磁共振研究

Out-of-plane angular dependence of ferromagnetic resonance spectra was measured in sputtered Co/Pt multilayers and analyzed with the Landau-Lifshitz-Gilbert equation. The effective demagnetizing field 4πMeff is found to increase with decreasing tPt and decreasing 1/tco, which can be considered as a result of interplay between the interlayer coupling and a lowdimensional effect. The g factor increases with increasing tpt and decreasing tCo, indicating contribution of spin-polarization of Pt atoms and additional contribution of orbital moment of Co atoms. The in-plane resonance line-width increases with decreasing too and increases with increasing tPt.     

纳米多层膜的制备方法及比较

介绍了制备纳米多层膜的物理和化学方法,并对它们的优劣进行了比较。     

Al/Pb纳米多层膜的组织结构

采用离子束溅射法制备Al/Pb纳米多层膜,其XRD图谱表明,仅有Pb的衍射峰出现,而无Al相或其他新相产生;经250℃退火或15天的时效后,样品中均同时出现Al和Pb的衍射峰,但仍然没有其他新相生成。SEM、TEM观察表明,Al/Pb纳米多层膜表面并非均匀一致,而是由颗粒和空隙组成,时效或热处理均能改善膜层的表面粗糙度,但也使得多层膜中的Pb膜发生碎化,进而使得Pb从Al膜中析出并发生团簇。     

高电荷态离子129Xe29+与Au表面作用产生的X射线谱

研究了高电荷态离子129Xe29 入射金属Au表面产生的X射线谱。分析结果表明,足够高的电荷态低速离子激发靶表面原子,无需很强的束流强度,便可有效地产生重原子的特征X谱线(Au-Mα),特征X射线的幅度和产额随入射离子的动能的增加而增加。     

磁性多层膜材料的研究进展

综合介绍了磁性多层膜的制备方法,如分子束外延、溅射、化学方法等,归纳总结了目前在各方面的进展和存在的问题,并提出了今后的一些研究方向。     

高电荷态Ar^q＋离子与固体表面相互作用的X射线谱研究

综述了低能高电荷态Ar^q＋离子与不同金属表面相互作用时,入射粒子和靶原子发射的X射线谱研究。重点分析了q=16时,高电荷态Ar^16＋离子与金属表面相互作用过程中发射Ar的Kα特征X射线的机理,以及q=17,18时入射粒子单粒子X射线产额等问题。分析总结了核电荷数不同的金属靶原子受激发射X射线的机理,以及入射离子的动能跟靶原子X射线产额的关系。展望了预期的研究方向。     

高电荷态离子40Ar17+与Au表面作用产生的X射线谱

利用光谱技术研究了高电荷态离子40Ar 17离子入射金属Au表面产生的X射线谱。分析结果表明,特征X射线发射,与离子最初的电子组态有关,Ar的Kα-X射线是离子在与固体表面相互作用过程中在固体表面之下形成的空心原子发射的。     

利用腔QED制备多原子的W纠缠态(英文)

研究了如何利用腔QED通过拉曼跃迁制备多原子的W纠缠态.本制备方案在操作期间不涉及腔-光子布居,且对腔衰减不敏感.另外,还指出了在现有的条件下,该方案易于操作.     

银表面复合自组装膜的电化学阻抗和X射线衍射分析

银表面组装有一系列自组装膜:3-巯基三甲氧基硅烷(3-MPT SAMs)、3-巯基三甲氧基硅烷与十八硫醇混合自组装膜(SAMM)以及两者之上分别自组装有乙烯基咔唑与甲基丙烯酸乙脂共聚物的复合自组装多层膜(CSAF(Ⅰ)和CSAF(Ⅱ)).这些惰性膜可作为金属表面的隔绝层.使用电化学阻抗(EIS)技术和X射线衍射(XRD)技术分析了表面修饰有这些自组装膜的银在10%氢氧化钠水溶液中的氧化阻力及其影响因素,发现自组装膜的存在不同程度地抑制了银表面的氧化反应,氧化过程存在2个以上时间常数.     

A—SiNx:H/A—Si:H超晶格材料制备X射线衍射及光学性质的研究

本文报道了对A—SiNx:H/A—Si:H超晶格材料X射线和光学性质等方面的研究。提出一个非晶超格材料X射线衍射模型,和实验符合得较好,由此得到一个根据衍射峰相对强度获得界面情况的简单方法。观察到量子阱效应使光学带隙移动,发光峰移动,发光强度增大等现象。     

激光熔覆WC/Co多层过渡涂层与单层涂层的热应力有限元分析

在建立WC/Co多层过渡涂层与单层涂层模型的基础上,借助有限元分析软件对高温下涂层和基体的应力分布进行了模拟。在后处理阶段,对两种涂层结构分别选定了两条具有代表性的路径,同时提取两种结构对应路径上的应力,并进行了对比分析。结果表面,在界面和涂层厚度方向,多层过渡涂层的热应力总体上小于单层涂层的热应力,并且分布更加平缓。     

多层介质高反膜理论设计与光学特性分析

用膜系设计软件Essential Macloed,模拟多孔介质薄膜,用堆积密度的概念模拟了溶胶-凝胶法制备的纳米多孔薄膜的折射率;利用反射率增幅分析和膜层制备难度分析来选择理想的膜系设计;通过计算分析了经典四分之一波长膜系的光学特性,为多层高反膜的化学法制备与实际应用提供了重要依据.