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酞菁光盘染料的研究进展 总被引:8,自引:0,他引:8
总结了酞菁光盘染料近十几年的合成进展 ,以及其基本类型、结构与光物理性质之间的关系 ,并在应用方面总结了酞菁光盘染料结构与应用性能之间的关系 ,对其在CD R的应用前景方面作了简要分析 . 相似文献
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酞菁光盘染料研究进展(二) 总被引:2,自引:0,他引:2
对酞菁类光盘染料的基本类型、合成方法等方面进行了总结,对酞菁染料结构与光物理性质以及应用性能的关系进行了详细系统地讨论,并对其应用前景及存在问题作了简要分析 相似文献
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纤维表面的染料与人体皮肤密切接触对人体的皮肤有一定影响,而人们在穿用过程中,通过与皮肤接触或摩擦,会使部分染料被皮肤吸收对皮肤产生产生刺激而引发皮炎。所以纤维中染料的测定是非常重要的。阐述了几种纤维中染料测定的方法,对测定方法进行相应的比较并进行了进一步的分析。 相似文献
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用蒙脱石与Nafion制备了阳离子染料中性红化学修饰电极。两种CME在支持电解质溶液中有相似的循环伏安行为,蒙脱石CME的峰电流随膜厚增加而增加,而NafionCME的峰电流随膜厚增加有所降低,阳离子染料在蒙脱石膜内的扩散系数比在Nafion膜中的扩散系数大一个数量级,阴离子电活性物以及不同的制备方法对两种CME的电化学响应有不同的影响,两种CME在性质上的差异反映了两种膜的微结构与通透性等方面的 相似文献
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