模具型腔及表面加工处理技术

本文叙述了模具型腔及表面的抛光、花纹、镀层等加工处理技术。包括对被处理模具的选材及热处理的具体要求,以及手工抛光塑料模具型腔的要求,和粗磨、细磨、抛光和操作注意事项。详细介绍了模具表面强化、模具表面抛光、模具表面孔洞分析及改善、模具表面凸痕及改善、模具型腔表面花纹、锌基合金模具表面电镀铬等模具型腔及表面的加工处理技术。     

化学机械抛光之抛光垫表面沟槽形状的研究与分析

在化学机械抛光过程中,抛光垫表面沟槽形状是决定抛光垫性能的重要影响因素之一,它会直接影响抛光效果。在分析几种常规抛光垫表面沟槽结构形状的特性的基础上,介绍了新型抛光垫沟槽的研究进展,分析了几种新型抛光垫表面沟槽对抛光效果的影响,为化学机械抛光用的抛光垫表面沟槽特性的深入研究与分析提供参考。     

锗晶片的抛光工艺研究进展

锗单晶晶片作为一种重要的外延层衬底材料被广泛应用于航天航空领域。衬底外延生长要求锗晶片表面有极低的表面粗糙度、无表面/亚表面损伤和残余应力等,需要通过对锗表面进行抛光去除表面缺陷、提高表面质量,从而满足外延生长。本文综述了锗单晶衬底抛光的技术进展,分析了抛光液组分、pH值、离子强度、抛光工艺参数等对锗片抛光质量的影响,阐述了锗晶片的化学抛光机理,指出了目前锗抛光技术中存在的问题并对其未来发展方向进行了展望。     

金银饰品电镀中抛光工艺参数数学优化方法研究

传统方法在金银饰品镀后抛光处理过程中,由于抛光工艺参数选定不合理等原因,导致出现抛光后金银饰品表面的光亮度较差、饰品表面粗糙的问题。提出一种基于正交实验设计的金银饰品电镀中抛光工艺参数数学优化方法,依据镀后饰品的镀层厚度和表面粗糙度指标,检测各抛光工艺参数的重要度,依据分析正交实验结果来选定最佳抛光工艺参数及参数组合。实验证明提出的方法能够有效地优化镀后金银饰品的抛光工艺参数,提高饰品光亮度、降低粗糙度。     

塑料模表面缺陷分析及处理方法

采用手工抛光的模具则很少出现桔皮和麻坑.因此采用手工抛光,虽然耗费劳力和时间,但每次都能得到优良的模具表面,所以重要的塑料模具表面一般采用手工抛光.而如采用机械抛光时则必须使用合适的压力,避免出现桔皮和麻坑.为了提高模具的抛光性能可以采用渗碳、渗鼠的方法提高模具硬度,减少桔皮和麻坑的出现.     

化学机械抛光专利技术分析

<正>作为抛光速率和抛光效果俱佳的抛光技术,化学机械抛光得到了广泛的发展与研究,本文梳理化学机械抛光技术的专利申请趋势、创新主体、重点专利等方面,对化学机械抛光进行专利分析,为该领域技术人员了解专利申请情况提供参考。概述化学机械抛光（Chemical Mechanic Polishing,CMP）是一种表面全局平坦化技术,它利用磨损中的“软磨硬”原理,即采用较软的材料来进行抛光以实现高质量的表面抛光;基本工艺是将待抛光工件置于由纳米级磨料颗粒、     

基于注塑模具钢研磨和抛光工序的自动化表面处理

本文的主要目的是研究注塑模具钢自动研磨与球面抛光加工工序的可能性。目前,此项研究已经完成了磨削刀架的设计与制造。对于PDS5注塑模具钢的最佳球面研磨参数而言,其是以下因素的一系列的组合:研磨材料的磨料为粉红氧化铝,进给量500毫米/分钟,磨削深度20微米,磨削转速为18000RPM。如果用优化的参数进行表面研磨,表面粗糙度Ra值可由大约1.60微米改善至0.35微米。而用球抛光工艺和参数优化抛光,则可以进一步改善表面粗糙度Ra值从0.343微米至0.06微米左右。在模具内部曲面的测试部分中,用最佳参数的表面研磨、抛光,曲面表面粗糙度就可以提高约2.15微米到0 0.07微米。     

轮毂抛光传动装置

本文介绍了一种轮毂抛光传动装置,用于汽车轮毂抛光加工,其主要特点为太阳轮和行星齿轮构成的行星轮系,实现待抛光轮毂在抛光池中公转的同时实现自转,围绕主轴组件的太阳轮均匀分布安装有四组相同的行星组件,一个工作循环可抛光四个轮毂,加工效率高,抛光液对轮毂各个部位的冲刷充分,抛光效果好,与手工抛光相比,可以大大降低工人劳动强度。抛光过程在抛光液中进行,无粉尘产生,避免粉尘爆炸隐患,安全环保,有利于工人身体健康。     

AAO模板制备中高纯Al电解抛光工艺的研究

阳极氧化铝模板以其低成本、高通量、柔性和结构可控性等特点已被用于制备纳米结构材料和光子器件等模板。为促进规则多孔的形成和控制所需的性能,高纯Al片表面的预处理是必需的。为此本文研究了高纯Al片的抛光条件,将面积相近的阳极Al片与阴极碳板以相互平行的方式垂直放置于高氯酸与乙醇的体积比为1∶7抛光液中。在电解抛光过程中,当外加电压增至9 V以上时,Al片表面开始形成阳极膜,Al片面积越大该阳极膜所受重力势能作用越显著,致使在完成形成均匀阳极膜拐点处对应的电流密度值随Al片面积的增加而增加,且同一Al片面积具有较佳拐点值,以获得理想的表面光洁度。     

基于注塑模具钢研磨和抛光工序的自动化表面处理

本文的主要目的是研究注塑模具钢自动研磨与球面抛光加工工序的可能性。而完成这种注塑模具钢PDS5的塑性曲面的加工是在数控加工中心实现的。目前,此项研究已经完成了磨削刀架的设计与制造。其中,最佳表面研磨参数是在钢铁PDS5的加工中心测定的。对于PDS5注塑模具钢的最佳球面研磨参数而言,其是以下因素的一系列的组合：研磨材料的磨料为粉红氧化铝．进给量500毫米／分钟,磨削深度20微米,磨削转速为18000R2aM。如果用优化的参数进行表面研磨,表面粗糙度Ka值可由大约1．60微米改善至0．35微米。而用球抛光工艺和参数优化抛光,则可以进一步改善表面粗糙度Ra值从0．343微米至0．06微米左右。在模具内部曲面的测试部分中。用最佳参数的表面研磨、抛光,曲面表面粗糙度就可以提高约2．15微米到0．07微米。     

核电设备用镍基合金材料电解抛光工艺研究

本文介绍了一种用于大型设备上的涂刷式电解抛光技术,大型核电设备使用传统的电解抛光无法完成,运用涂刷式电解抛光技术可解决这个问题,同时运用该技术对核电用镍基合金材料的电解抛光工艺进行了试验研究。     

用于GaN生长的蓝宝石衬底片化学机械抛光工艺研究

对蓝宝石衬底片的化学机械抛光进行了研究。系统地分析了蓝宝石抛光工艺过程的性能参数,通过大量实验总结出了其影响因素并提出了优化方案,结果表明,采用粒径为40nm、低分散度的SiO2溶胶磨料并配合以适当参数进行抛光,可以获得良好的表面状态和较高的去除速率。能够有效提高蓝宝石表面的性能及加工效率。     

让铝合金闪闪发亮——铝合金表面形貌与结构调控工艺条件优化与性能测试

正随着科技的不断发展,人们对材料表面的光滑度与平整度的要求越来越苛刻,这为表面化学抛光技术提出了新的挑战,也带来了机遇。如今,化学抛光技术在多种金属加工、制备中有了很大的成就。其中,铝合金的表面处理就需用到化学抛光,此工序能提升铝合金的光反射能力与耐腐蚀性。由于铝材料硬度低、质软,在加工时可能会有一些表面磨损,极大地影响了其外观与耐腐蚀性。机械抛光、化学抛光和电化学抛光是目     

用于GaN生长的蓝宝石衬底片化学机械抛光工艺研究

对蓝宝石衬底片的化学机械抛光进行了研究.系统地分析了蓝宝石抛光工艺过程的性能参数,通过大量实验总结出了其影响因素并提出了优化方案,结果表明,采用粒径为40nm、低分散度的SiO2溶胶磨料并配合以适当参数进行抛光,可以获得良好的表面状态和较高的去除速率.能够有效提高蓝宝石表面的性能及加工效率.     

瓷质抛光弧面板工业化试生产的体会

<正> 现代建筑发展趋势之一,是大量采用“曲面圆角”的建筑造型取代传统、呆板的“平面直角”造型。现代建筑更多采用弧形墙面、弧形雨棚、弧形墙角、圆形大万、圆形立柱,从而在建筑上形成大量的各种弧形表面。 石质抛光弧面板的加工方法,是以手工打凿或金刚石筒锯切割的方式将整块石材加工成弧形毛板,将多块弧形毛板拼成圆筒固定在石材外圆磨床上,经磨削、抛光加工成为石质抛光弧面板。由于受加工方法和设备的限制,石质抛光弧面板最大加工     

电火花加工工艺对金属材料表面的影响研究

金属模具因为其表面所具有的高硬度属性,其加工过程大多需要通过电火花加工完成。为了提高加工质量、优化加工工艺,详细研究了电火花加工工艺对金属材料表面的影响。通过对比电火花线切割所使用的割一修三法和磨削抛光法,综合分析对金属材料表面粗糙度、微观缺陷相关参数,从而获取电火花加工热应力对硬质合金表面的影响。旨在为未来金属材料加工和电火花加工工艺升级提供理论借鉴。     

混粉电火花加工4Cr13钢材料以及加工效率仿真

在生产实践中,电火花加工主要用于加工金属模具这种难加工并且导电性好材料。但是,有些模具型腔表面积过大,加工时放电不稳定。导致加工表面粗糙,必须经过后期的手工抛光才能达到要求。混粉电火花就是在这种情况下发展起来的,具有表面质量高,可以实现大面积光整加工的优点。本文利用ANSYS分析软件对混粉电火花加工4Cr13模具钢的温度场进行仿真,分析放电蚀坑的形状和体积,进一步分析影响表面粗糙度的因素并且对公式进行拟合得出加工效率的数学模型,指导工业生产获得更高的利润。     

离子束溅射沉积—刻蚀作用下KDP晶体表面粗糙度研究

为了消除单点金刚石车削(SPDT)后KDP晶体表面留下的周期性小尺度波纹,文章探索采用离子束溅射沉积-刻蚀的方法对车削后KDP晶体进行抛光加工。本文主要分析了平坦化层材料的选择,溅射沉积工艺参数对KDP晶体平坦化层粗糙度的影响,并计算了平坦化层刻蚀速率从而完成了刻蚀转移。利用刻蚀转移成功地将单点金刚石车削后的表面由初始的6.54nmRMS,经过1.76nmRMS的平坦化层,最终刻蚀转移到KDP晶体表面得到1.84nmRMS的光滑表面,实验结果验证了离子束溅射沉积—刻蚀抛光方法的可行性。     

一种楼梯清洁装置

一种楼梯清洁装置,其特征在于:包括上斜梁套和两个边板,上斜梁套两侧边的内表面均设置绒布,每个侧边的下端外缘处通过连接机构连接一个边板的上端,两个边板的内侧表面均设置绒布,所述上斜梁套内嵌装楼梯的上斜梁,两个边板通过其上设置的磁力机构相互吸引并夹紧在楼梯的中斜梁、下斜梁、支撑梁和竖梁上,所述绒布用于擦拭。     

自清洁功能的高分子仿生表面研究取得新进展

我们仿造有超疏水性质和自清洁功能荷叶表面的微米鄄纳米双重结构,通过分子设计和大分子在溶液及凝聚过程中分子形态的控制,采用一步法浇铸成膜制备出相应的高分子仿生表面,得到了可与荷叶相媲美的超疏水性质和荷叶所不具备的疏油特性,该表面具备自清洁功能和“自修复”功能。