氩气、氮气对纳米金刚石膜形貌及结构的影响研究

采用热阴极PCVD法,在CH4/H2的混合反应气源中通入不同气体(氩气、氮气)在P型(100)硅衬底上,合成了纳米金刚石膜。结果表明:Ar-90%时,金刚石薄膜表面晶粒尺寸达到纳米量级,在表面出现二次形核现象;N2-1%时,金刚石薄膜表面晶粒细化,晶界和缺陷增多,出现纳米级"菜花状"结构,氮气对金刚石晶粒有一定刻蚀作用出现凹陷生长现象。     

常压下用化学气相沉积法制备TiO_2薄膜的最佳条件

Tio2薄膜材料由于具有其颜料特性极高的催化活性和光稳定性而应用广泛。本文通过查阅大量文献资料,主要对Tio2薄膜的常用方法中的化学气相沉积法进行了论述。     

常压下用化学气相沉积法制备TiO_2薄膜的最佳条件

Tio2薄膜材料由于具有其颜料特性极高的催化活性和光稳定性而应用广泛。本文通过查阅大量文献资料,主要对Tio2薄膜的常用方法中的化学气相沉积法进行了论述。     

催化剂浓度对合成双壁碳纳米管的影响

以二茂铁为催化剂,硫为添加剂,采用化学气相沉积法合成双壁碳纳米管宏观薄膜和长丝。透射电镜照片显示催化剂的浓度对碳纳米管的纯度以及双壁碳纳米管的直径都有所影响。     

温度对ACCVD法制备单壁碳纳米管的影响

本文以"柠檬酸法"制备的Mo1Fe10催化剂,以无水乙醇为碳源的化学气相沉积法(ACCVD)制备单壁碳纳米管(swcnts),实验采用温度和气流分布更为均匀,更易放大的流化床反应器。本实验考查了在相同的催化剂Mo1Fe10下,载气Ar气的流量为150ml/min,无水乙醇为碳源,不同温度下对制备单壁碳纳米管的影响。实验表明:在950℃时制备的单壁碳纳米管具有管径均匀,不定型碳含量少等特点。     

多晶钼酸钙薄膜化工制备的研究

随着近年来科学技术的不断发展,薄膜材料被广泛的应用在各行业工作和生产中,对于促进和推动企业的现代化工作和发展发挥着不可替代的作用。21世纪,社会的发展促使先进器械的广泛使用,各种型号的高反膜、分光膜、反射率光膜和增透膜等早已成为各种光学仪器中不可缺少的核心部件。随着社会生产技术的发展,薄膜不仅单纯的应用在光学仪器之中,在其他领域也得到了广泛的应用。多晶钼酸钙薄膜作为主要的薄膜组成成分,受到社会各界的关注与青睐。本文就多晶钼酸钙薄膜的化工制备工艺进行分析与研究,并提出了各种制备原理和优缺点。     

GaN薄膜在自持金刚石衬底上的ECR—PEMOCVD法的生长研究

利用电子回旋共振等离子体增强金属有机物化学气相沉积(ECR-PEMOCVD)技术,采用三甲基镓(TMGa)和氮气(N2)作为实验反应源,改变不同的沉积温度,在自支持金刚石衬底上沉积制备了高择优取向的GaN薄膜。利用高能电子衍射(RHEED)、X射线衍射(XRD)和原子力显微镜(AFM)等测试方式,研究了沉积温度的变化对GaN薄膜的结晶性和表面形貌的影响。     

一种类金刚石薄膜新型制备装置的设计

首先概括了类金刚石薄膜的特性及其应用领域。然后,介绍了微空心阴极放电的基本结构与应用领域。最后,利用微空心阴极放电结构设计了一种新型制备类金刚石薄膜的装置,并对该装置的设计原理、工作原理和特点进行了详细的论述。     

化学气相沉积方法制备石墨烯的研究

近年来,碳纳米技术的研究越来越活跃。因其优异的电学、力学、热学和光学性能,受到了人们的广泛关注,并逐渐成为材料研究领域的研究热点之一。在众多的碳纳米材料中,石墨烯是主要的研究目标。本文中我们通过化学气相沉积的方法来制备石墨烯,通过扫描电子显微镜和拉曼光谱分析仪等设备分析其形貌、结晶性。结果表明化学气相沉积方法制备碳纳米材料过程中温度是一个重要因素。     

氧流量对ITO薄膜粗糙度的影响

ITO(氧化铟锡)薄膜是一种应用比较多的透明导电薄膜,在不同的条件下制备的ITO薄膜,其性能也会不同。本文主要阐述了在不同的氧流量下,ITO薄膜表面粗糙度变化的情况。     

论MBR中微生物对膜污染的影响

膜生物反应器技术是一种新型污水处理技术,该技术通过膜的高效截留作用,使反应器维持很高的污泥浓度,从而降低了污泥负荷,提高了系统的处理效率。但是膜污染问题限制了膜生物反应器在污水处理领域的广泛应用,而对于膜污染机理尚在深入研究中。本文主要从微生物的角度,探讨微生物性质对膜污染的影响。     

气体流量对磁控溅射制备ZnO薄膜沉积速率以及阻隔能力的影响

采用射频磁控溅射技术,以氧化锌(ZnO)为靶材,在PET塑料表面沉积制备了氧化锌薄膜包装材料,研究了氩气(Ar)流量对所制备的ZnO薄膜结构、形貌、沉积速率、透氧率以及透湿率的影响。实验结果表明,当氩气流量为40 sccm时,ZnO薄膜表面均匀且致密,其氧气透过率可以达到1.14 cc/(m~2.d),水蒸汽透过率为0.43 g/(m~2.d)。     

溅射压强对薄膜太阳电池背电极电学性能的影响

采用直流磁控溅射工艺,在不同溅射压强条件下制备了薄膜太阳电池用金属Mo背电极。用场发射场发射扫描电子显微镜(FESEM)和四探针测试仪研究了溅射压强对薄膜的成膜速率和电学性能的影响。结果表明,较高溅射压强条件下,制得的薄膜电阻率较高,薄膜与衬底附着性能较好。随溅射压强减小,制备的薄膜电阻率降低,与衬底附着性较差。溅射过程中,改变溅射压强制备的双层Mo薄膜,能同时达到具有良好附着性和较低电阻率的要求,更适合做薄膜太阳电池背电极。     

石灰-石膏法烟气脱硫中pH值对脱硫效果的影响

本文以某单位锅炉日常脱硫运行情况为实例,对石灰-石膏法脱硫效率与pH值的关系进行分析验证。从2011年~2012年采暖季脱硫运行趋势图可以看出,pH值基本维持在5.9~6.5之间,小于7,大于5.5,既避免了pH过高导致的结垢堵塞问题,又保证了脱硫效率,烟气中SO2排放浓度均满足地方标准不大于300 mg/Nm3的要求。