电子束光刻亚微米矩形阵列的坡莫合金薄膜铁磁共振谱的研究

报告了对电子束刻蚀的亚微米矩形阵列坡莫合金NiFe薄膜系统的铁磁共振 (FMR)研究及对矩形阵列不均匀退磁场和铁磁共振谱进行的理论拟合 .计算出样品的有效磁化强度M ,回旋磁比γ以及兰德因子g等参数 ,并且得出了共振场与所加磁场方位关系的理论曲线 .结果与实验曲线一致 .研究证明矩形单元导致了单轴平面磁各向异性 .本文还发现了在外磁场加在垂直于膜面的方向时 ,在主共振峰的低场侧出现了一系列规则的卫星峰 ,并对这一系列的子峰出现可能的机制进行了探讨