TbCo磁化膜制备工艺对其垂直磁各向异性的影响

利用磁控溅射法在玻璃基片制备TbCo非晶垂直磁化膜,采用样品振动磁强计和磁转矩测量仪测量薄膜的磁性能和磁转矩曲线．结果表明：Cr底层、TbCo磁性层组分、溅射气压、基片偏压、退火温度和TbCo磁性层厚度对薄膜的磁各向异性能都有很大影响．．     

DyFeCo磁光薄膜的制备和特性研究

本文采用射频磁控溅射方法制备了ＤｙＦｅＣｏ非晶磁光薄膜，研究了氩气压、溅射功率对ＤｙＦｏＣｏ薄膜性能的影响，实验表明：反射率随惶气压升高而降低，矫顽力随敢压升高而逐渐增大，达到一定值时克尔回线反应，随后矫顽力又逐渐减少，高气压下的矫顽力温度特性较低气压下的矫顽力温度特性要好，但氩气压进一步升高，磁光克尔回线矩形度变差，本征磁光克尔角随氩气压升高而增大，到达最大值后又逐渐减少。反射率随溅射功率增加而     

TbCo薄膜磁各向异性的单离子模型分析

根据沉积过程中薄膜中稀土原子周围最近邻原子的各向异性排列,建立了TbCo非晶垂直磁化膜磁各向异性的单离子模型,并计算了TbCo非晶垂直磁化膜磁各向异性能Ku值,与实验测量结果符合很好.结果表明:膜内非S态Tb离子的非球对称电荷分布与局部晶场之间的相互作用,是TbCo薄膜存在垂直磁各向异性的主要原因.     

TbCo非晶薄膜垂直各向异性的磁偶极模型分析

根据稀土-过渡金属薄膜中原子磁矩的亚铁磁结构排列，建立TbCo非晶垂直磁化膜磁各向异性的磁偶极模型，依此计算TbCo非晶垂直磁化膜磁各向异性能Ku值随温度的变化．与实验测量结果比较，稀土原子、过渡金属原子以及稀土-过渡金属原子之间的磁偶极相互作用，只是TbCo薄膜存在垂直磁各向平性的次要部分．     

磁光克尔法研究NiMn薄膜的磁性质

较详细介绍了磁光克尔效应的原理、测量方法以及磁光克尔法的实验装置,也介绍了实验装置中的仪器特点以及磁光克尔法的测量过程。从实验结果可以看出,NiMn多层薄膜有明显的磁滞行为,反映了NiMn多层薄膜的铁磁特性。     

退火对FeZrBNb薄膜磁特性和巨磁阻抗效应的影响

用射频溅射法制备了FeZrBNb软磁合金薄膜,研究了不同退火方式对薄膜磁特性和巨磁阻抗效应的影响。结果表明,退火能改善薄膜的软磁性能,使其矫顽力由0．5kA·m^-1降到了0．09kA·m^-1,横向和纵向有效磁导率都有所提高。退火也能明显提高薄膜样品的巨磁阻抗效应,加磁场退火的薄膜样品在13MHz下纵向和横向最大巨磁阻抗比分别为2．6％和1．7％。     

溅射电流对钛薄膜光电性能的影响

为了研究溅射电流对磁控溅射沉积钛薄膜光、电学性能的影响,在其它工艺参数相同的情况下改变溅射电流(0.3 A～0.8 A)制备了6组薄膜样品,采用四探针电阻测试仪测量样品的电阻率,用紫外可见分光光度计测量样品的透射率.同时,利用磁控溅射技术成功制取钛薄膜光栅,采用读数显微镜测量光栅常量.研究表明:钛薄膜电阻率随溅射电流的增大而减小,最小电阻率为3.034 3Ω·cm;透射率随溅射电流的增大先减小后增大,最大透射率约为99%(对应溅射电流0.3 A),最小透射率约为0.03%(对应溅射电流0.7 A);测得钛薄膜光栅的光栅常量为(0.170 1±0.000 7)mm.     

反应磁控溅射Cu-Al-O薄膜的结构和光电学性质研究

反应磁控溅射方法在玻璃基片上沉积Cu-Al-O薄膜,并对薄膜进行退火处理,研究溅射功率和退火温度对薄膜结构和光电学性质的影响。用X射线衍射仪、分光光度计等仪器对薄膜的性质进行表征,采用拟合正入射透射谱数据计算薄膜的厚度。结果表明：不同溅射功率条件下制备的薄膜为非晶态,透射率在近红外部分达到60%以上,电阻率随溅射功率的增加呈U型变化,在120 W附近,电阻率达到极小值;退火后,薄膜的XRD谱出现Cu4O3、Cu O和Al2O3的混合相,薄膜透射率有所提高,电阻率随退火温度的提高而先增大后减小。     

[Ag／CoPt]n／Ag薄膜的结构和磁性

采用磁控溅射方法在玻璃基片上制备了[Ag/CoPt]n/Ag薄膜,并在600℃退火30min.结果表明,Ag掺杂厚度(x)对CoPt薄膜的结构和磁性影响很大.当Ag层厚度为0.5nm时,薄膜的垂直取向程度最高,其垂直矫顽力高达8.68×105A.m-1,而平行矫顽力仅为0.54×105A.m-1.适当厚度的Ag不仅有利于薄膜的垂直取向,而且能降低晶粒间的交换耦合作用.     

Study on the reactions of azo compounds with acyl halides mediated by Sm/TiCl4

INTRODUCTION Amides are important commercial and biologi-cal compounds. Because amides constitute the backbone of protein molecules, their chemistry is of extreme importance. The penicillin and cephalosporin antibiotics are among the best-known products of the pharmaceutical industry. For this reason, the devel-opment of new and simple methods for the synthesis of the peptide bond always constitute an important addition to the field of natural products synthesis. Several general methods …     

电化学抛光对1Cr18Ni9Ti性能的影响研究

研究了1Cr18Ni9Ti不锈钢在磷酸—硫酸—铬酐等电解液中电化学抛光后的性能。结果表明:电化学抛光后1Cr18Ni9Ti表层钝化膜形成,其耐腐蚀性明显提高,表面光亮度比机械抛光明显提高,可达镜面程度。同时冷作硬化层的去除,使表面显微硬度稍下降,电化学抛光可提高1Cr18Ni9Ti不锈钢的宏观性能。     

非晶碳化硅薄膜光学特性的热退火效应

通过Raman光谱、紫外-可见透射光谱技术及原子力显微镜对非晶碳化硅薄膜结构和光学特性的热退火效应进行了研究。结果表明,碳化硅拉曼谱带随退火温度的增加而逐渐红移和尖锐化,显示了薄膜中晶化有序度的提高。退火后薄膜包含大量紧凑的纳米团簇,膜面相对于未退火样品较为粗糙。根据紫外-可见透射光谱导出的光学带隙从原始样品的1．86eV连续增加到经1050℃退火样品的2．23eV。碳化硅薄膜中纳米团簇的形成及其晶化程度的增加导致了薄膜光学带隙的蓝移效应。     

氩氧比对射频反应磁控溅射制备TiO2薄膜亲水性能的影响

采用射频磁控溅射法制备了锐钛矿相TiO2薄膜,在基片温度、溅射功率、溅射时间以及靶材与基片间的距离等因素不变的情况下,研究不同氩氧分压比对薄膜亲水性能的影响。通过原子力显微镜(AFM)、X射线衍射光谱(XRD)表征了薄膜的微观表面形貌和晶相组成,采用静态接触角(SCA)评估薄膜的亲水性。实验结果表明不同氩氧比制备的锐钛矿相TiO2薄膜,紫外光照12 h后,接触角降到10o左右,而氩氧比小于等于5:5的接触角都低至5o左右,达到了超亲水性。氩氧分压比为4:6时,样品薄膜的光致亲水性最佳且光照后亲水性的保持较长。     

衬底温度对Zn095Ca005O薄膜结构和光学性质的影响

利用磁控溅射法在玻璃基片上制备Zn095Ca005O薄膜,用X射线衍射（XRD）研究薄膜的结构特性,用LS920荧光光谱仪测量了样品薄膜的PL谱,探讨了衬底温度对薄膜结晶质量和光学性质的影响。研究发现,衬底温度对薄膜的质量影响较小,450℃时制备的薄膜结晶质量最好;不同衬底温度对发光峰强度有影响;薄膜在可见光区显示出较高的透过性,在350－400nm范围内薄膜透过率骤然下降,在该范围内存在吸收边。     

衬底温度对Zn0.95Ca0.05O薄膜结构和光学性质的影响

利用磁控溅射法在玻璃基片上制备Zn0.95Ca0.05O薄膜,用X射线衍射(XRD)研究薄膜的结构特性,用LS920荧光光谱仪测量了样品薄膜的PL谱,探讨了衬底温度对薄膜结晶质量和光学性质的影响。研究发现,衬底温度对薄膜的质量影响较小,450℃时制备的薄膜结晶质量最好;不同衬底温度对发光峰强度有影响;薄膜在可见光区显示出较高的透过性,在350-400 nm范围内薄膜透过率骤然下降,在该范围内存在吸收边。     

应力作用下的钛酸钡/钛酸锶超晶格的热力学性质

应用朗道——德文希尔理论研究了生长在(001)SrTiO3上的BaTiO3/SrTiO3超晶格的热力学性质。计算结果表明:通过改变生长在(001)SrTiO3上的BT/ST双层超晶格的层比例,可以得到不同的热电响应和电滞回线。     

高速电弧喷涂3Cr13管状丝材涂层性能研究

对高速电弧喷涂 3Cr13涂层进行了性能研究 .结果表明 :涂层具有较高的结合强度和硬度、且在较高温度下涂层不发生软化