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相似文献
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1.
准自由支撑铝薄膜系统的制备及其特征表面形貌   总被引:1,自引:0,他引:1  
采用真空蒸发的方法在液体基底表面成功制备了具有自由支撑边界条件的金属铝薄膜系统,观察并研究了薄膜中的特征表面形貌。实验发现:铝薄膜中存在着由一块块近似为长方形的畴块连接而成的自薄膜边缘向薄膜内部区域生长的特征带状结构形貌;带状结构中畴块的最大长度和最大宽度均先随薄膜厚度的增加而增大,随后稳定变小。分析认为:这些现象是由于液体基底与固体薄膜之间的特征相互作用所致。  相似文献   

2.
采用射频反应磁控溅射氧化铪钯的方法,在硅衬底成功制备了高介电HfOxNy薄膜.利用原子力显微镜,研究氮的掺入对薄膜表面形貌的影响,结果表明,N的掺杂改善了HfO2薄膜的表面形貌,同时抑制了高温退火过程中表面粗糙度的增加;通过椭圆偏振仪对薄膜的光学特性的研究表明,随退火温度的升高,薄膜的折射率和消光系数都呈上升趋势.  相似文献   

3.
采用真空蒸发方法在硅油表面制备了一种具有自由支撑边界条件的铜薄膜系统并研究了其成膜机理和带状有序结构。实验发现:此类铜薄膜的生长机制近似服从二阶段生长模型。进一步实验发现:铜分枝状凝聚体在大气中作无规扩散和旋转,直到在某处堆积或者连接。在该连续铜薄膜系统中,我们观察到了带状有序结构。该有序结构是由一系列长度基本一致而宽度不尽相同的平行键块组成。实验结果表明:该有序结构是在样品被取出真空腔之前,由于液体基底的收缩导致薄膜压应力而形起的。理论推测铜薄膜中可能同时存在一系列不同类型的正弦型内应力分布,而这种内应力分布最终导致带状有序结构的形成。  相似文献   

4.
本文用XRD和SEM等分析测试手段,详细研究了Sol-Gel法不同工艺过程制得KTN薄膜样品的结构和形貌。发现KTN薄膜的结构和形貌主要受热处理工艺的烧结温度、升降温速率、烧结气氛等影响,详细分析讨论了产生这些影响的原因。在SrTiO3(100,111)基片上制备出了高取向、纯钙钛矿结构、表面形貌良好的KTN薄膜。  相似文献   

5.
通过脉冲激光沉积方法在1.3Pa氧氛围,100-500℃衬底温度,Si(111)衬底上成功地制备了ZnO薄膜,我们用X射线衍射(XRD)谱,原子力显微镜(AFM),透射电镜(TEM)对其表面形貌和结构进行了测试和分析。通过测试分析得知,这些ZnO薄膜在生长温度400℃时能够获得较好的晶体结构,薄膜表面平整,晶粒均匀。  相似文献   

6.
数控铣削加工表面形貌在很大程度上影响着工件的许多技术性能和使用功能。根据数控铣削加工零件表面成形原理,设计一种描述铣削加工表面三维形貌的数学模型。该法按照几何关系推导和泰勒展开变换分别计算"凸凹结合"型和"凸"形曲面下的残留高度,在此基础上用MATLAB软件对工件表面三维形貌进行仿真分析,结果显示本文模型具有简便性和较高的预测精度。研究结果对铣削加工零件表面形状误差预测具有重要的参考价值,既可用于形貌影响因素的分析及合理配置,也可运用于铣削加工表面质量控制研究。  相似文献   

7.
该文用磁控溅射法在蓝宝石衬底上生长了ZnO薄膜,所得薄膜采用X射线衍射仪(XRD)、原子力显微镜(AFM)、紫外可见分光光度计(UVS)、光致荧光光谱(PL)对样品的结构、形貌和发光特性进行表征.结果表明掺杂后的ZnO薄膜仍为六角纤锌矿结构,磁控溅射镀膜样品的透射边随着退火温度的提高发生蓝移又红移现象,所有样品都有比较好的发光性能;900℃溅射镀膜样品的表面形貌平整度较好,粒子分布均匀.  相似文献   

8.
利用Matlab数值分析软件,将沉积在液体基金的银薄膜真彩数值图像进行了二值化处理,并计算了该银薄膜的分形盒维数。经计算发现银薄膜图像灰度分布具有双峰结构。二值化后的图像计算得到液体基底金属银薄膜的盒维数大约为1.50,计算结果与相关文献的结果一致。它表明基于Matlab的盒维数算法用于计算此类液体基底金属薄膜的二维分形盒维数具有较好的准确性,同时也表明其可以用来分析液体基底表面其他金属薄膜分形维数。  相似文献   

9.
以P123为结构导向剂,正硅酸四乙酯为硅源,制备出二氧化硅溶胶.将制备好的溶胶溶液均匀涂于导电玻璃上,用电吹风沿玻片纵向吹扫至溶液凝固.将载有凝胶的导电玻璃置于马弗炉中,设定从室温经过1 000 min升温至370℃后恒温180 min,烧去薄膜上的有机部分,再降温至室温,最终得到有序介孔二氧化硅薄膜.将带有二氧化硅薄膜的导电玻璃放入AgNO3无水乙醇溶液中,70 ℃油浴加热24 h后取出,超声清洗,烘干并进行封装即得到银纳米阵列电极.采用X射线衍射(XRD)、透射电镜( TEM)、电子能谱分析(EDS)、紫外可见光谱(UV-Vis)及电化学方法进行表征.结果表明,成功形成了银纳米粒子及银纳米阵列电极.  相似文献   

10.
利用直流磁控溅射方法在玻璃基片上沉积了金属钽薄膜,研究了边界效应对薄膜屈曲结构的影响.结果表明:制备态的钽薄膜包含较大的残余压应力,促使薄膜与基片脱层而形成屈曲结构;屈曲结构在薄膜边界处成核生长,并逐渐扩展到薄膜内部区域;在薄膜边界处,屈曲结构呈垂直边界的平行直线状条纹结构,随着距离的增加,屈曲结构逐渐分叉形成无规网格结构或电话线结构.利用薄膜的单轴应力和等双轴应力模型,对屈曲结构边界处的形貌特征进行了深入分析.  相似文献   

11.
本文通过对液体表面系统的分析,阐明了液体的表面自由能,并讨论了它和表面内能的关系.  相似文献   

12.
采用溶胶凝胶工艺,分别在普通载玻片和Si片上生长了不同浓度的Er掺杂ZnO薄膜,稀土Er3+与Zn2+的摩尔比分别为1%、2%、3%,所得薄膜采用X射线衍射仪(XRD)、原子力显微镜(AFM)、紫外可见分光光度计(UVS)、光致荧光光谱(PL)对样品的结构、形貌和发光进行表征.结果表明掺杂后的样品仍为六角纤锌矿结构,随着掺杂浓度提高,掺杂样品的XRD衍射峰向大角方向微移,透射边向短波方向微移,紫外发光峰的强度逐渐增强,表面均呈颗粒状且尺寸逐渐减小.  相似文献   

13.
汉乐府“行”题歌诗与七言歌行体有着很深的渊源关系。七言歌行的成熟正是全面吸收和发展了汉乐府“行”题歌诗的精神和特质,因而汉乐府“行”题歌诗作为一种诗歌范式对七言歌行的定型起到了奠基作用。“歌行体”所受汉乐府“行”题歌诗的影响主要表现为:由叙事功能向抒情转化;沿用一些句式及铺排手法;由外向内的生命意识。  相似文献   

14.
采用溶胶凝胶(sol-gel)法,在普通载玻片上成功制备ZnO薄膜,对于不同退火温度样品采用X射线衍射仪(XRD)、原子力显微镜(AFM)、紫外可见分光光度计(UVS)及光致荧光光谱(PL)对样品的结构、形貌和光学特性进行表征.XRD谱表明在300℃、400℃、500℃退火处理的样品都有较好的c轴择优取向,而且随着退火温度的升高择优取向明显改善.透射谱中能观察到明显的ZnO吸收边.用AFM观察到的样品表面形貌表明,退火温度提高使样品表面更加平整,同时粒径变大.PL谱中在380nm附近可观察到明显发光峰.  相似文献   

15.
刘畅 《海外英语》2011,(8):227-229
As a method of bridging language and culture, translation has played a significant part in connecting the ideas of people all over the world and accelerating the communication in politics, economy, culture, education, science and technology. China has increased cultural exchanges with many other countries, and a great number of foreign films have flooded into our country. Thus, how to appropriately translate the foreign films becomes an urgent issue. In the process of translating English films to Chinese ones, the translator should use a method to attend to the content of the movie itself, especially recreational artistic features, as well as tremendous differences between English language and Chinese language culture. This paper attempts to compare the different film versions of Pride and Prejudice (edition 1995), and analyzes the examples of literal translation and free translation in order to reveal the difficulty of which translation method to choose in film translation. Thus, based on the comparison, we could get a tentative result that which kind of film version is more accepted by most audiences so that we can provide the film translators some new train of thought.  相似文献   

16.
采用磁控溅射方法在Si片沉积了Ti-50.9at%Ni形状记忆合金薄膜,并将薄膜分别在不同温度下进行退火.利用示差扫描量热方法(DSC)、X射线衍射仪(XRD)、透射电镜(TEM)研究了薄膜退火前后形貌、相变特征及应力随退火温度的变化.实验结果表明:溅射态薄膜为非晶态,其晶化温度范围为430℃-535℃,晶化同时伴随着Ti3Ni4相的析出;退火后的薄膜随着退火温度的升高,Rs、Af、Ms均呈上升趋势.薄膜的残余应力随着退火温度的增加而逐渐减少.  相似文献   

17.
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