铁基PbO2电极的电沉积制备和表征

采用电沉积方法制备PbO2/Fe电极,研究了电镀液配方、电沉积温度、电流密度、添加剂以及底层(SnO2 Sb2O3)的制备对电极外观、电极的导电性能和使用寿命的影响.采用正交实验法得出了制备铁基PbO2电极的最佳工艺条件:先在低温40℃、大电流密度55mA/cm2条件下电沉积2h制备α-PbO2底层,而后在高温70℃、小电流密度35mA/cm2条件下沉积4h制备β-PbO2.     

硫化镉纳米修饰电极的制备及其光电催化应用

以氯化镉和硫代硫酸钠溶液为电解液,应用循环伏安法,直接在氧化铟锡(ITO)导电玻璃表面电沉积制得硫化镉(CdS)纳米粒子.采用扫描电镜(SEM)和紫外一可见吸收光谱对制得的硫化镉的形状、大小、密度进行表征.在电镀液为0.1MCdCl2和0.02MNa2S2O3,电位范围为-0.2V～-0.8V.沉积40圈,温度50℃条件下,制得的CdS纳米粒子大小均匀,分散性好,平均粒径约为60nm,并用制得的ITO/CdS电极研究了对甲基橙溶液(MeO)的光电催化性能.结果表明,光照条件下,电流增加1约62%.     

液晶模板法电沉积制备Pt/Au纳米合金及催化性能

利用非离子表面活性剂Brij56的层状液晶为模板,以HAuCl4和H2PtCl6的混合水溶液作为体系的反应物,在Au丝的工作电极表面电沉积制备Au/Pt合金.研究表明、反应物的浓度、液晶体系的组成和反应时间都将影响产物的形貌.适当条件下得到直径约为30nm的纳米合金孔状结构,用循环伏安法对合金电极的电化学性能进行测试,结果表明合金具有良好的电催化甲醇的氧化性能.     

电沉积制备Cu纳米线研究

通过电沉积的方法,采用自行设计的电极,改变铜粒子沉积时的随机状态,获得纳米铜颗粒在特定条件下形成预定的阵列纳米线。     

控制电位脉冲电沉积法制备镍析氢电极

采用控制电位脉冲电沉积法制备Ni电极,并在25％NaOH溶液中通过阴极极化曲线表征其催化析氢活性．探讨了脉冲限制电位及脉冲电流密度对电沉积的影响和电沉积制备Ni电极的适宜制备条件．结果显示：脉冲电位上限为-0．8V,脉冲电位下限为-1．8V,电流密度在53mA·cm^-2时制备的Ni电极具有最高的催化析氢性能．     

Ti/Pr_2O_3-nanoTiO_2膜电极的制备及电催化活性

用溶胶-凝胶法在Ti基表面修饰一层的TiO2膜和稀土Pr掺杂的TiO2膜,分别制得空白Ti/nanoTiO2膜电极和Ti/Pr2O3-nanoTiO2膜电极。XRD测试表明Ti/Pr2O3-nanoTiO2膜电极组分晶型为锐钛矿,颗粒粒径计算为15.8 nm。SEM测试形貌表明Ti/Pr2O3-nanoTiO2膜电极表面颗粒尺寸在10~15 nm之间,无团聚,颗粒均匀分布。循环伏安法探究了空白Ti/nanoTiO2膜电极和Ti/Pr2O3-nanoTiO2膜电极分别在无机相H2SO4溶液和有机相DMF溶液中电催化还原活性。结果表明:在两种溶液中,Ti/Pr2O3-nanoTiO2膜电极与空白Ti/nanoTiO2膜电极相比,电催化活性在无机和有机相中分别增强3.0倍和2.8倍,并且该方法制备的电极电催化稳定性高。     

pH值对化学沉积CdS薄膜性质的影响

采用化学沉积法(CBD),在pH值为9,10,11的三种溶液中进行沉积制取CdS薄膜,并利用X射线衍射(XRD)、透射光谱和原子力显微镜(AFM)对沉积膜进行了测试分析,阐述不同pH值对沉积效果的影响。结果表明不同pH值的成膜效果差异较大,当pH=9~10之间的成膜效果最好。     

采用电沉积技术制备铋纳米线阵列

采用电沉积技术 ,通过将铋沉积到氧化铝多孔膜的纳米级微孔内 ,制备铋纳米线阵列材料 .实验发现 ,温度对电沉积过程有显著影响 ,镀液中铋以简单 Bi3 离子形式存在有助于金属铋沉积到氧化铝多孔膜的纳米级微孔内 .由于 Bi3 离子在氧化铝模板的纳米级微孔内扩散困难 ,故采取脉冲电沉积工艺 .XRD分析显示 ,通过电沉积工艺制备出了 Bi纳米线材料     

铂的电沉积

综述铂的电沉积制备工艺和方法 ,并对电沉积机理作了简要的介绍     

稀土La掺杂的Ti/& nanoTiO2膜电极的制备及电催化活性

采用溶胶-凝胶法,以钛酸丁酯为原料制备Ti基TiO2膜电极,制得稀土La掺杂的Ti/La2O3-nanoTiO2膜电极。运用XRD,SEM,CV等方式对所制得的掺杂电极进行了表征,XRD测试结果表明Ti/La2O3-nanoTiO2膜电极组分晶型均为锐钛矿型,颗粒粒径约为20nm。 SEM形貌显示Ti/La2O3-nanoTiO2电极表面颗粒比较均匀,颗粒尺寸约在10~15 nm之间。通过循环伏安法研究了Ti/La2O3-nanoTiO2膜电极在无机相HCl溶液中以及有机相马来酸溶液中的电催化还原活性。结果表明：在两种溶液中,稀土离子掺杂改性后的Ti/La2O3-nanoTiO2膜电极与空白Ti/nanoTiO2膜电极相比,电催化活性明显增强,并且该方法制备的电极电催化稳定性高。     

钕铁硼永磁材料电沉积制备工艺设计

通过单因素试验和正交试验,设计推导出合适的电镀液配方.通过研究镀液的pH值、电流强度、镀液温度、电镀时间和硼酸含量等电沉积过程中的主要工艺参数对电镀结果的影响,最终得到的最佳工艺条件为采用72 g/L甘氨酸和30g/L氯化铵作混合络合物,36 g/L的硼酸作稳定剂,主盐浓度分别为12 g/L的氯化钕4、0 g/L的氯化亚铁;pH值为3.15,温度为45℃,电流密度J为1.0 A/dm2,电镀时间为15 min.该工艺能产生均匀、致密的光亮镀层,为制备NdFeB永磁材料提供了一条新途径.     

晶态复合电极（Ni—Mo）—WC的电沉积过程初步研究

通过测量电沉积极极极化曲线和电位一时间曲线，初步研究了复合电沉积中的WC微粒的共沉积过程，镀层经XRD检测为晶态结构，并通过SEM观察比较了镀层的形貌。     

电沉积制备硼化钛基惰性阴极涂层

硼化钛基材料作为铝电解槽的阴极,可与铝液润湿,增加电解槽的稳定性,并且可以增加电解槽的电流效率;而且可以保护阴极免受铝液、冰晶石的侵蚀,增加了电解槽的寿命,降低电解铝的成本。本文采用电沉积方法制备了硼化钛基阴极涂层。     

电沉积制备硼化钛基惰性阴极涂层

硼化钛基材料作为铝电解槽的阴极,可与铝液润湿,增加电解槽的稳定性,并且可以增加电解槽的电流效率;而且可以保护阴极免受铝液、冰晶石的侵蚀,增加了电解槽的寿命,降低电解铝的成本.本文采用电沉积方法制备了硼化钛基阴极涂层.     

Mo掺杂Ti/Sb-SnO_2电极处理含油废水的实验研究

采用自制的Mo掺杂Ti/Sb-SnO2电极处理含油废水,实验结果表明,在电流密度为20mA/cm2,电解时间为50min,极板间距为1.5cm,pH值为6.5的工作条件下,废水COD和浊度的去除率分别达到59.7%和87.0%。     

正交法优化电沉积CuInSe2薄膜条件的研究

本研究以导电玻璃作基体材料,在0.1 mol/L的柠檬酸和KC1溶液中,在pH为1.5的条件下,采用了正交实验设计和电沉积法,制备了不同的CuInSe2薄膜样品,分析了各样品的X射线衍射测试结果,优选出较佳的电沉积条件,制备了质量较好黄铜矿型的CuInSe2薄膜。     

锌掺杂Ti/SnO_2/Sb_2O_3电极的制备及性能研究

采用高温热氧化方法制备了锌掺杂Ti/SnO2/Sb2O3电极电催化电极,对Zn含量不同的电极进行研究,并探究新电极在工业上的应用。结果表明,Sn、Sb和Zn元素不同摩尔比（1：0.1：0、1：0.1：0.000 1、1：0.1：0.001、1：0.1：0.005）中比例为1：0.1：0.005的电极的电催化活性最高,分形维数为2.64,该电极对工业废水中污染物苯酚具有一定降解作用。     

CdS/Poly(MMA-co-MAA)复合材料的一步光化学法制备及其光催化性能研究

以硫酸镉、硫代硫酸钠、甲基丙烯酸甲酯(MMA)和甲基丙烯酸(MAA)为原料,采用波长为254 nm的8 w紫外灯辐照,经一步光化学法合成CdS/Poly(MMA-co-MAA)复合材料.通过XRD、FTIR、TGA等对材料的结构和组成进行表征,同时,以亚甲基蓝为目标降解物,在紫外光和可见光下对材料光催化活性及光腐蚀效应...     

表面活性剂对复合电沉积法制备纳米碳管复合镀层的影响

采用复合电沉积法制备纳米碳管复合镀层,在控制实验基本工艺参数不变的条件下,通过加入不同的表面活性剂进行电镀,测量纳米碳管的质量占所得镀层总质量的百分比。经过分析后可以得到:阳离子表面活性剂更有利于制备纳米碳管复合镀层的电沉积;而阴离子表面活性剂以及非离子表面活性剂则不利于制备纳米碳管复合镀层的电沉积。     

微电极法研究氯化物体系中Sn(Ⅱ)电沉积机理及电化学行为

本文用微盘电极,采用CV及LSSV方法研究锡在氯化物体系中的电沉积过程的机理,与文献报导的RDE法有相同的结果,并测定了锡放电反应的一些动力学参数.