首页 | 本学科首页   官方微博 | 高级检索  
文章检索
  按 检索   检索词:      
出版年份:   被引次数:   他引次数: 提示:输入*表示无穷大
  收费全文   2357篇
  免费   18篇
  国内免费   28篇
教育   1924篇
科学研究   356篇
体育   33篇
综合类   74篇
文化理论   3篇
信息传播   13篇
  2024年   1篇
  2023年   27篇
  2022年   19篇
  2021年   27篇
  2020年   34篇
  2019年   21篇
  2018年   22篇
  2017年   31篇
  2016年   42篇
  2015年   57篇
  2014年   186篇
  2013年   155篇
  2012年   130篇
  2011年   195篇
  2010年   135篇
  2009年   156篇
  2008年   183篇
  2007年   128篇
  2006年   98篇
  2005年   123篇
  2004年   106篇
  2003年   83篇
  2002年   66篇
  2001年   63篇
  2000年   89篇
  1999年   37篇
  1998年   33篇
  1997年   33篇
  1996年   30篇
  1995年   17篇
  1994年   21篇
  1993年   15篇
  1992年   9篇
  1991年   10篇
  1990年   10篇
  1989年   7篇
  1987年   2篇
  1986年   2篇
排序方式: 共有2403条查询结果,搜索用时 0 毫秒
31.
离子反应是中学化学的一个重要知识点,涉及内容广,综合性强,能力要求高,是高考化学中的常见题型.特别是离子方程式的书写,同学们应给予高度重视.本文将高考中离子方程式书写的设错方式与诊断进行归类,以期给同学们一个警示,避免再次落入题设"陷阱"之中.  相似文献   
32.
《商洛学院学报》2016,(6):43-47
通过L16(44)正交实验,研究了膨胀石墨投加量、Cr(VI)初始浓度、温度、p H等对Cr(VI)去除效果的影响,分析了膨胀石墨吸附Cr(VI)的热力学与动力学机理。结果显示,最佳工艺条件为:Cr(VI)初始浓度为40 mg·L-1,EG投加量为0.100 g,反应温度为30℃,p H值为3.0;膨胀石墨吸附Cr(VI)符合二级动力学模型,吸附热力学结果符合Langmuir等温方程式,证明Cr(VI)主要以单分子层形式被吸附于膨胀石墨表面。  相似文献   
33.
文章研究了在硫酸铵存在下,乙醇与水能够分为醇/水两相,在分相过程中,Bi(Ⅲ)与I-及CPB 缔合生成BiI63-(CPB )3,该三元缔合物能够很好地被乙醇相萃取。通过控制pH值,能够使Bi(Ⅲ)与Mn(Ⅱ)、Fe(Ⅲ)、Co(Ⅱ)、Ni(Ⅱ)、Zn(Ⅱ)、Al(Ⅲ)等常见离子完全分离。  相似文献   
34.
不久之后,科学家也许能得到一种新形态的物质。离子以每秒几千公里的速度沿着一条轨道作环形运动,有可能形成一种奇异的晶体。这种“晶态离子束”的离子在高速运动过程中将保持完美无缺的排列。  相似文献   
35.
配离子上的电荷数测定方法一般常用的方法有电导法,用离子交换法同样也可以达到目的。离子交换是一个化学计量过程。如采用Cl―型阴离子交换树脂,则配离子与树脂发生交换,树脂上的离子总电荷数没有净变化。  相似文献   
36.
"TOF"是"Time of Flight"一词的英文缩写,是利用不同质量数的离子在飞行管道中高速飞行一定距离后到达接收器的时间差来实现同位素分离的.TOF有很多优越性,如分析速度极快,样品消耗很小,体积比磁质谱更小.  相似文献   
37.
考试大纲中对离子反应一节内容的要求是理解离子反应的概念,能正确书写离子方程式.离子反应已成了高考的热点内容,限制条件逐渐增多,出题方式也在不断变化,有向交叉发展的趋势.下面是湖北省部分示范学校2007届高三第一次联考中出现的一道离子反应题,有新意,但从考试结果看,却出现了许多值得大家注意的问题.  相似文献   
38.
离子方程式的书写及正误判断在每年高考试题中屡见不鲜,是高考试题中的一棵常青树.其中条件型离子方程式既是一个重点,更是一个难点.所谓条件型离子方程式是指在一个或多个条件下书写的离子方程式,常考查的有过量型、定量型、目标型等.  相似文献   
39.
离子反应是多年来高考的重点、难点、热点,也是新课标下高考化学试题的亮点、闪光点和焦点。一、离子方程式涉及离子方程式正误判断、定量分析、书写技能、强弱优先原则,三大(质量、电荷、电子  相似文献   
40.
磁控溅射是物相沉积镀膜中较为常用的一种方法。本文介绍了磁控溅射中比较基础的溅射方式——直流磁控溅射,说明了磁控溅射相对于其他物相沉积的优势以及工作原理,重点强调了直流磁控溅射的工作流程。  相似文献   
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司  京ICP备09084417号