椭圆偏光法测量薄膜折射率和厚度的研究

本文介绍用椭圆偏光法测量薄膜折射率和薄膜厚度的方法，包括测量单层薄膜和多层薄膜的情况     

HfOxNy薄膜的制备及其性能研究

本文采用磁控溅射法制备了HfOxNy高介电薄膜，结合XRD、XPS等手段研究了退火温度对薄膜的结构和化学键态的影响，发现N的掺入使Hf4f峰位向低能方向移动．而随着退火温度的升高，Hf4f的双峰峰位向着高结合能的方向移动，这表明N的含量随着退火温度的升高而降低．XRD结果显示N的掺人能提高薄膜的晶化温度．     

真空紫外光技术制备致密非晶态ZnO薄膜

以六水合硝酸锌为原料，乙酰丙酮为配体剂，无水乙醇为溶剂，氨水为添加剂，制备了乙酰丙酮锌络合物前驱体溶液。以掺氟氧化锡导电玻璃为基底，将前驱体溶液旋涂到基底，在干燥的氮气气氛中，经波长为172 nm的真空紫外光照射5分钟后，可以对前驱体薄膜中的金属有机前躯体进行光化学分解，形成氧化锌薄膜。采用紫外吸收光谱、傅里叶变换红外光谱、X射线光电子能谱、X射线衍射、以及扫描电镜对薄膜进行表征和分析。结果表明，有机配体在真空紫外光光照5分钟内迅速分解和缩聚，生成无针孔、高致密的ZnO薄膜。     

0.9Pb(Sc_(0.5)Ta_(0.5))O_3-0.1PbTiO_3/PbTiO_3多层薄膜制备及铁电性研究

以LaNiO3做缓冲层,用射频磁控溅射法在SiO2/Si(100)衬底上制备出0.9Pb(Sc0.5Ta0.5)O3-0.1PbTiO3/PbTiO3铁电多层薄膜.采用两步法在峰值温度750℃对薄膜进行退火.通过电滞回线和漏电流曲线对薄膜的铁电性能进行了测量.研究发现,原位生长的薄膜已经具备了较好的铁电性,这为(1-x)Pb(Sc0.5Ta0.5)O3-x0.1PbTiO3薄膜的低温制备提供了可能性.经过退火后,薄膜的铁电性略有下降,高温下铅的损失可以很好的解释这一现象.     

Lambert W函数性质及其应用

介绍了Lambert W函数的代数及图像性质,如该函数的级数展开式、微分及函数在复平面的图像等。总结了其在数学、物理、化学和生物等领域的应用情况。     

薄膜电感测试原理及方法

微器件的测试是保证器件质量和发展的关键手段。介绍了由矢量网络分析仪与探针台结合组成的薄膜电感测试系统,详细讲述了薄膜电感的测试原理及方法,实验样品验证了方法的正确性和可行性。     

“笨蛋”原来并不笨

“笨蛋”通常指智商不高的人,或是一种脏话、口头禅.不过在古代,称呼一个人为“笨蛋”和智商却毫无关系,“笨”甚至还是一种造纸的原材料呢.《说文解字》说:“笨,竹里也.从竹,本声.”《广雅·释草》的解释更加详细:“竹其表曰篦,其里曰笨.”综合以上注释,可见“笨”是竹子的里层,是竹子杀去青皮后留下的部分,是一层白色的薄膜,像纸一样又薄又白,可做造纸的原材料.     

对薄膜干涉中半波损失问题的探讨

结合高中物理中常见的薄膜干涉实例,讨论了需要考虑半波损失的情形,以半波损失对明暗条纹形成位置的影响,给出了相应教学策略,以期为这一问题的深入分析提供新的视角。