基于蒙特卡罗方法的薄膜表面粗糙度的数值模拟

薄膜的表面粗糙度直接影响薄膜的最终性能。本文构建了薄膜的三维生长动力学模型,并采用蒙特卡罗方法实现了薄膜生长的数值模拟,得到了沉积速率、基底温度和原子覆盖度等因素对薄膜表面粗糙度的影响。模拟结果表明:随着沉积速率的增大、基底温度的降低和覆盖度的增大,薄膜的表面粗糙度增大;并且在沉积速率较小时,薄膜的表面粗糙度随沉积速率增加迅速,而沉积速率较大时,薄膜的表面粗糙度随沉积速率增加缓慢。     

真空退火对非晶硅薄膜的暗电导和光电导的影响

本文报道对用ＳｉＨ４辉光放电方法和溅射法制备的本征ａ－Ｓｉ薄膜样品，进行高真空退电导变化效应。     

聚吡咯的制备及其电化学行为分析

建立了聚吡咯（ppy)的电化学制备方法，研究了阳离子对薄膜性质的影响，介绍了电极电位对薄膜中Li^ 含量的影响，在0.8V(vs.SCE)时电解各的乙腈溶液，可在Pt片电极表面获得聚吡咯薄膜，金属离子在薄膜上可以发生嵌入和脱嵌现象，在电极电位为－0.8V时，Li^ 的嵌入量最大，探讨了阴离子对薄膜的电化学行为的影响。     

微波表面波PECVD法改善PET包装瓶阻隔性能研究

本文介绍了采用微波表面波等离子体化学气相沉积(MW Surface-wave PECVD)的方法,在PET包装瓶内壁沉积一层类金刚石(Diamond-like Carbon,DLC)薄膜,以改善其阻隔性能。实验过程中以乙炔(C2H2)作为原料、氩气(Ar)作为放电气体沉积DLC薄膜,并采用傅立叶红外光谱(FTIR)、拉曼光谱(Raman Spectra)等仪器辅助分析薄膜的结构、成分,通过测试PET瓶的氧气透过率(OTR)表征其阻隔性能。实验结果表明:采用微波表面波PECVD法在PET包装瓶内沉积纳米级厚度的DLC薄膜可以大大改善PET瓶的阻隔性能,分析结果还显示薄膜的主要成分为碳、氢,结构主要是以无定形的形式存在。     

PVDF压电薄膜传感器的制作研究

传感器的制作是利用的28um厚的4层结构的PVDF压电薄膜,传感器表面电极形状的制作用了剪切加丙酮腐蚀的方法,保证了传感器有一定的非金属化的边缘。对于电极的引出,我们的设计是将传感器上、下电极面引脚错开,引出电极是我们比较容易做到的穿透式,我们用了压接端子压接和空心小铆钉铆接的两种方法。     

不同成膜基材对聚酰亚胺固体润滑膜摩擦学性能的影响

在不同的基材上采用两步法制备聚酰亚胺薄膜，在电子拉伸实验仪上考察膜的附着强度，在MM-200摩擦实验机上考察膜的摩擦性能，通过SEM观察PI膜表面磨损形貌以及转移膜形貌，测量了不同的成膜基材的硬度。实验结果显示，在A3钢镀Ni基材上制备的聚酰亚胺固体润滑膜具有最好的附着强度和摩擦磨损性能。     

电子束光刻亚微米矩阵列的坡莫合金薄膜铁磁共振谱的研究

报告了对电子束刻蚀的亚微米矩形阵列坡莫合金NiFe薄膜系统的铁磁共振（FMR）研究及对矩形阵列不均匀退磁场和铁磁共振谱进行的理论拟合。计算出样品的有效磁化强度M，回旋磁比γ以及兰德因子g等参数，并且得出了共振场与所加磁场方位关系的理论曲线。结果与实验曲线一致。研究证明矩形单元导致了单轴平面磁各向异性。本还发现了在外磁场加在垂直于膜面的方向时，在主共振峰的低场侧出现了一系列规则的卫星峰，并对这一系列的子峰出现可能的机制进行了探讨。     

溅射参数对FeSiAl薄膜磁性能的影响

对在溅射状态下制得的FeSiAl薄膜的结构和磁性能随溅射工艺参数如溅射功率、溅射气压、靶间距等的变化规律进行了讨论与分析。实验结果表明,溅射态下的FeSiAl薄膜具有(220)织构bcc α无序相,其4πMs可以达到9.9×106A/m(9.9kGs)。较高的溅射功率、合适的溅射Ar气压以及靶间距都有利于降低薄膜的矫顽力Hc。