影印平板法方法的研究与改进

传统的影印平板法(Replica plating)自上世纪中叶发明以来,经过不断改进,现在已经成为微生物实验的一项重要方法.然而传统方法存在使用的丝绒材料价格较贵、需反复灭菌和使用不便等缺点.本文提出了一种新的影印模型.新模型在影印工具、方法及使用材料上进行了改进,从而使影印平板法操作既便捷又可靠.     

碱性化学镀Ni－Cu－P工艺研究

通过正交试验,以硫酸镍和硫酸铜为主盐、次磷酸钠为还原剂研究了铝片表面的化学镀Ni－Cu－P工艺,其最优工艺配方为：硫酸镍25 g／L,硫酸铜2．0 g／L,次亚磷酸钠24 g／L,柠檬酸钠45 g／L,硫脲2．5mg／L,NaF 0．15 g／L,OP－100．8 mg／L,pH值9,温度70℃,施镀时间40min。通过耐硝酸变色试验检测了沉积层的抗蚀性,并讨论了沉积层抗蚀性的影响因素。     

化学复合镀液中Al2O3微粒分散剂研究

研究用于Ni-P/Al2O3化学复合镀液的Al2O3悬浮液分散剂.将140 nm的α-Al2O3干粉与表面活性剂溶液混合,采用高速机械搅拌和超声波分散Al2O3悬浮液.通过分光光度计测定悬浮液吸光度,用PdCl2测试镀液稳定性;通过孔隙率试验和结合力试验测试化学复合镀层性能,用SEM和EDS测试镀层形貌和化学成分.试验结果表明,阴离子型表面活性剂与非离子型表面活性剂复配,对Al2O3悬浮液的分散稳定有较好的协同效果,适宜的复配分散剂组成为：20 mg/L十二烷基硫酸钠,150 mg/L Tween-80,80 mg/L聚乙二醇.用其配置2 g/L纳米Al2O3悬浮液,静置24 h后吸光度为1.595.该悬浮液配置的镀液稳定性试验时间为165 s,镀速为16.5μm/h.复合镀层中Al2O3粒子呈弥散状分布,Al2O3含量为0.77%.镀层光亮、致密.孔隙率为0.06个/cm2.结合力符合GB/T13913-92标准.该复配分散剂适应于Ni-P/Al2O3化学复合镀液.     

三价铬对镀铬液性能及镀铬层质量的影响

采用镀硬铬溶液 ,用电解法改变镀液中Cr3 + 浓度 ,实验Cr3 + 浓度对镀铬液性能及镀铬层质量的影响。结果表明 ,镀铬溶液中Cr3 + 浓度偏低时 ,镀液深镀能力差 ,镀层光泽不良 ,清洗性差。随着Cr3 + 浓度升高 ,镀液分散能力和电流效率降低 ,光亮区电流强度范围减小 ,而镀液深镀能力、镀层硬度及耐磨性随Cr3 + 的浓度升高而出现极值     

玻壳模具镀金工艺及镀层性能研究

本文通过玻壳模具镀金工艺的分析研究，比较了直接镀金工艺和镀镍／金工艺的实施方案，并通过一系列可靠性试验，得出镍脸镀层具有更好的抗蚀能力和焊接可靠性的结论。     

准分子紫外光源低温生长金属薄膜

报道了紫外光源在制备金属薄膜材料方面的应用研究,金属钯是一种优良的催化剂,首先在各种衬底上面淀积靶的金属有机化合物薄膜,通过紫外分解钯的金属有机化合物,形成数埃到几十埃的色膜,然后再利用钯的催化效应,在无电极电镀中淀积出几十纳米到几微米厚的各种金属薄膜（如Cu、Au、Ni等）。     

酸性硫酸铜镀液中氯离子的测定

酸性光亮镀铜工艺发展已久．由于镀液中氯离子含量对镀层光亮度和阳极行为有较大的影响．一般要求其浓度在20～80mg／L.对镀层中如此低含量氯离子的测定方法有：比色测定法、选择电极法、硫氰化钾回滴法等，但这些方法均有一定的缺点．作者根据实际，得出用AgNO3溶液和Hg(NO3)2溶液分析镀铜液中Clˉ离子的方案和适当的温度条件．该法较其他方法有明显的优点．     

Cu-Sn-P/stearic acid(lauric acid,BTA)化学镀层制备和性质研究

本文研究了在稳定剂存在的条件下,在钢铁表面制备了Cu-Sn-P多元合金化学镀层,讨论了镀液成分和沉积条件等对镀层性质的影响.采用了硬脂酸、月桂酸和苯并三氮唑对Cu-Sn-P镀层表面进行再处理,从而形成致密保护膜,得到Cu-Sn-P/stearic acid(lauric acid,BTA)镀层,并研究了其性能.     

表面活性剂对复合电沉积法制备纳米碳管复合镀层的影响

采用复合电沉积法制备纳米碳管复合镀层,在控制实验基本工艺参数不变的条件下,通过加入不同的表面活性剂进行电镀,测量纳米碳管的质量占所得镀层总质量的百分比。经过分析后可以得到:阳离子表面活性剂更有利于制备纳米碳管复合镀层的电沉积;而阴离子表面活性剂以及非离子表面活性剂则不利于制备纳米碳管复合镀层的电沉积。