pH响应性星型超支化聚合物的制备及其组装

采用原子转移自由基聚合法(ATRP)合成了醛基封端的聚甲基丙烯酸丁酯(PBMA),进一步与超支化聚乙烯亚胺(HPEI)通过希夫碱键缩合,制备了两亲性星型超支化聚合物HPEI-star-PBMA。不同于传统的疏水核-亲水臂结构,HPEI-star-PBMA具有亲水核-疏水臂的结构。由于具有两亲性,HPEIstar-PBMA能够自组装形成纳米粒子。同时,亲水核与疏水臂之间的希夫碱连接赋予了聚合物pH响应性,可以通过改变溶液pH调节组装体的形貌。     

两个含Zn的金属有机配位聚合物的合成及其晶体结构

将Zn(CH3COO)2.2H2O与3,5-二羧酸-吡啶(3,5-H2pydc)以1:1的比例混合溶于无水C2H5OH和NH3.H2O(10:1)的混合溶液中,在室温下搅拌反应即可得二维聚合物[Zn(3,5-pydc)(H2O)2]n(1)。将Zn(CH3COO)2.2H2O与反式-1,2-双-(4-吡啶基)乙烯(bpe)以1:1的比例混合溶于无水CH3OH和NH3.H2O(10:1)的混合溶液中,搅拌反应即可得一维聚合物[Zn(CH3COO)2(bpe)]n(2)。     

奇异(n-1,1)共轭边值问题的多重正解

利用锥映射不动点指数定理证明了 (n - 1,1)共轭边值问题un+a(t)f(u) =O ,u(j) (0 ) =u(1) =0 ,0≤j≤n - 2 ,至少存在两个正解 ,本文允许a(t)d在 [0 ,1]两端点处具有奇性 ,并允许a(t)在 [0 ,1]某些子区间上恒为零。     

负介电常数材料与负磁导率材料双层共轭结构的共振隧穿

利用转移矩阵方法,研究了负介电常数材料和负磁导率材料组成的双层共轭结构的共振隧穿问题.结果表明,当具有色散的负介电常数材料和负磁导率材料排列在一起组成共轭结构时,在频率满足某个特定条件下,电磁场能量局域在界面上的模式将会演变为共振隧穿模,导致共振透射的发生,这种现象不随入射角和入射波的偏振状态而变化.同时得到了共振隧穿模的品质因子随材料厚度的增加而增加,材料含弱吸收时的结果相同。     

二次曲线的射影与度量

度量几何中圆的切割线之间所确定的数量关系,推广到射影几何里一般二次曲线中,利用调和共轭元素之间的关系,更广泛地确定了极与极线的相互关系,着重介绍了二次曲线的度量性质与射影性质的内在联系。     

探究共点共线的射影几何学方法

由完全四点形、调和点列或调和线束的定义,Desargues命题、Desargues逆命题或调和共轭定理,解决了三线共点、四线共点,三点共线、四点共线、五点共线或六点共线的问题．同时还应用上述定义、命题或定理解决了求定点问题、轨迹问题及作图问题。     

以Ag作为构筑单元的二维配位聚合物的合成与表征

配住聚合物[Ag(L)2ClO4]是以N,N-(2-吡啶)-(4-吡啶甲基)胺和AgClO4为原料,通过水(溶剂)热法合成.X单晶结构解析显示N,N-(2-吡啶)-(4-吡啶甲基)胺通过2-吡啶和4-吡啶甲基的N原子桥联Ag,形成菱形网格,配体N,N-(2-吡啶)-(4-吡啶甲基)胺的两个苯环互相垂直,并以Ag和分子间氢键为中心.化合物晶体数据单斜晶系,C2/c空间群,晶胞参数a=0.848 31(6)nm,b=1.725 4(1)nm,c=1.669 9(1)nm,β=99.677(6)°.V=2.559 4(1)nm3.     

茶碱分子印迹PDVB/PAA IPN的合成条件探讨

将工业丙烯酸和致孔剂溶胀到聚二乙烯基苯树脂球中,通过悬浮聚合合成了茶碱分子印迹和非分子印迹的大孔聚二乙烯基苯／聚丙烯酸互穿聚合物网络（PDVB／PAAIPN）珠体,测定了两种IPN的结构,考察了分散剂、致孔剂、吸附介质对树脂的吸附性能的影响．结果表明,最好的分散剂为3％NaCl、1％PVA;而且CHCl3对茶碱分子印迹PDVB／PAAIPN树脂有“拉平效应”,而水对树脂有“区分效应”．致孔剂甲苯的加入有利于提高树脂的吸附性能．     

PST/CE半互穿聚合物网络的制备与表征

在引发剂偶氮异丁腈（AIBN）作用下,单体苯乙烯（ST）与氰酸酯树脂（CE）聚合,异步合成聚苯乙烯/氰酸酯树脂半互穿网络（PST/CE-Semi-IPN）聚合物.力学性能测试结果表明,PST/CE-Semi-IPN在PST/CE为15/85时,其冲击强度、弯曲强度分别比纯CE提高了66.4%和16.4%;FT-IR和DSC分析结果表明,形成网络的各组分间未发生化学反应.与CE比较,聚合物网络的韧性提高,耐热性能得以保持.     

Preparation and adsorption behaviors of Cu(II) ion-imprinted polymers

Imprinted polymers were prepared for selective removal of Cu（Ⅱ） ions from metal solutions. Three ion-imprinted polymers were synthesized with methacrylic acid （MAA）, acrylamide （AA） and N,N＇-methylenebisacrylamide （MBAA） respectively as the functional monomers, ethleneglycoldimethacrylate （EGDMA） as the cross-linking agent, 2,2＇- azobisisobutyronitrile （AIBN） as the initiator and Cu （Ⅱ） ion as the imprint ion. The template Cu （Ⅱ） ion was removed from the polymer by leaching with a liquid of a 1：1 volumetric ratio of HCl to ethylenediaminetetraacetic acid （EDTA）. The capacity and selectivity of Cu（Ⅱ） ion adsorption were investigated with the three imprinted polymers and their non-imprinted counterparts. The polymers have a maximum adsorption capacity at pH 7.0. The isotherm of their batch adsorption of Cu（Ⅱ） ions shows a Langmuir adsorption pattern. Imprinted polymers all have a much higher capacity and higher selectivity of Cu（Ⅱ） adsorption than nonimprinted ones. MAA polymer benefits the most from imprinting. Imprinted MAA polymer has the highest selectivity when used to rebind Cu （Ⅱ） ion from an aqueous solution in the presence of other metal ions. Ion imprinting can be a promising technique of preparing selective adsorbents to separate and preconcentrate metal in a medium of multiple competitive metal ions through solid phase extraction （SPE）.