Cooperative Photocatalytic Degradation of Methyl Orange by H2O2 and CuO Thin Film

本文以Cu（NO3）2·3H2O为铜源,浓氨水为络合剂和NaOH调节溶液的pH,采用化学浴法（CBD）制备了CuO薄膜。通过X-射线衍射（XRD）和扫描电子显微镜（SEM）对其光催化前后的结构和形貌进行了表征。将CuO薄膜放在含有H2O2的甲基橙溶液中,经不同光源照射一定时间后,取其溶液进行可见分光光度分析来研究CuO薄膜的光催化性能。试验结果表明：紫外灯光源下,当催化剂CuO薄膜的表面积为12．50cm2、3．0％H2O2用量为40．0ml、pH=7时,降解甲基橙溶液的效果较好,光照10min后降解率就达到100．0％;不加H2O2时,需光照40min降解率才能达到100．0％,说明H2O2对CuO膜光催化降解甲基橙起到协同促进作用。     

双层透明薄膜制备及氧含量对折射率影响研究

利用磁控溅射技术在玻璃基片上分别沉积ZnOx薄膜、TiO2-y薄膜和TiO2-y/ZnOx双层透明薄膜,改变薄膜沉积过程中的氩气(Ar)和氧气((O2)的比例,获得具有不同氧含量的ZnOx薄膜和TiO2-y薄膜.采用椭偏仪测定所有样品的折射率,仔细研究薄膜中氧含量对折射率的影响.分别选择具有较大的折射率TiO2-y薄膜和具有较小的折射率ZnOx薄膜的生长条件,制备TiO2-y/ZnOx双层薄膜,获得光密媒质/光疏媒质双层结构,并观察到He-Ne激光从ZnOx薄膜入射到TiO2-y/ZnOx界面上发生的全反射现象.研究成果适用于大学生物理实验中的研究型实验或大学创新实验.     

退火温度对Ce掺杂ZnO薄膜光学特性影响的研究

采用溶胶凝胶(sol-gel)法,在普通载玻片和Si-SiO2衬底上成功制备Ce掺杂ZnO薄膜.利用X射线衍射仪(XRD)、原子力显微镜(AFM)及光致荧光光谱(PL)对样品的结构、形貌和光学特性进行表征.XRD谱表明大部分样品都有较好的c轴择优取向,而且随着退火温度的升高择优取向明显改善.PL谱中在390nm附近可观察到明显发光峰,退火温度升高能够提高本征发光峰强度,抑制可见光区发光强度.用AFM观察到的样品表面形貌表明,退火温度提高使样品表面更加平整,同时粒径变大.     

一种关于动态称重系统车型分类的研究

本文首先简要介绍车型分类原理及其目前的一些研究动态,然后比较各种车型分类原理的优缺点和可行性,最后提出了一种比较先进实用的车型分类检测的方法,即通过采用红外线检测、压电薄膜轴传感器检测和视频图像检测这三大关键技术,能够较好地在动态称重系统中实现车型分类。     

运用物理知识解决实际问题

在日常生活中有很多问题与物理知识紧密相连,有些问题看似明白,但究其根源就含糊不清,因此学习好物理学知识弄清问题实质非常必要.下面列举相关的问题,期望能够给同学一些启示.1.如图1.去掉罐头盒两端的盖子,一端用橡皮筋扎紧橡皮薄膜,另一端附近点燃一只蜡烛,对着火焰敲打包在另一端的橡皮薄膜,你会看到什么现象?这个现象说明了什么?     

晶体的缺陷美

缺陷本是不足,是遗憾,但正是由于缺陷的存在,才有了能导电的固体电解质、半导体材料和优良性能的合金材料。本文通过晶体缺陷美的展示,让学生体会化学的美,从而激发学习化学的兴趣。     

衬底温度对Zn0.95Ca0.05O薄膜结构和光学性质的影响

利用磁控溅射法在玻璃基片上制备Zn0.95Ca0.05O薄膜,用X射线衍射(XRD)研究薄膜的结构特性,用LS920荧光光谱仪测量了样品薄膜的PL谱,探讨了衬底温度对薄膜结晶质量和光学性质的影响。研究发现,衬底温度对薄膜的质量影响较小,450℃时制备的薄膜结晶质量最好;不同衬底温度对发光峰强度有影响;薄膜在可见光区显示出较高的透过性,在350-400 nm范围内薄膜透过率骤然下降,在该范围内存在吸收边。     

铁电薄膜平均极化性质的理论研究

文章应用Ginzburg-Landau-Devonshire(G-L-D)理论,引入物理参量a(描述两种铁电薄膜物理性能差异大小)来探讨含有表面过渡层且由两种不同铁电材料构成的铁电双层膜体系的特征,进而对铁电体薄膜的平均极化性质进行了研究。结果显示:当温度一定时,由于两个铁电层间界面耦合的变化,铁电双层膜的平均极化将随着参量、,界面耦合系数以及双层膜的厚度L的增大呈现出增大或者减小的趋势。     

突破核心技术 赋能显示产业——记华南理工大学发光材料与器件国家重点实验室研究员兰林锋

显示产业是产值数千亿美元的大产业,与半导体一样,被视为体现国家核心竞争力的产业。在多年的发展下,我国显示产业规模于2020年已经达到世界第一。但这一成绩背后仍面临着一系列技术困境,材料问题便是其中的主要痛点之一。     

氧气流量对磁控溅射制备AZO薄膜特性的影响

利用直流磁控溅射方法在BK-7基片上制备掺铝氧化锌（AZO）透明导电薄膜。研究氧气流量对薄膜电学和光学性质的影响,分析结构和光电学性质改变的机理。X射线衍射的结果发现,氧气浓度为0．5％时制备的薄膜的衍射峰最强．且出现了新的（102）和（110）衍射峰。实验结果表明,随着氧气流量的增加,电阻率（p）先减小后增大,在氧气浓度为0．5％时获得最低电阻1．5×10^-3。所有样品在可见光区的平均光学透过率都在85％左右．在氧气浓度增到1．5％时可见光区的平均透射率达87％。