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设R是一个环,n、d为两个给定的非负整数,一个R-模M称为(n,d)-平坦,若对于任意n-表示R-模Q,有TorRd+(1Q,M)=0.M称为(n,d)-余挠,若对于任意(n,d)-平坦R-模N,有Ext1R(N,M)=0.本文运用这些定义刻画了n-凝聚环. 相似文献
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徐龙玉 《内江师范学院学报》2010,25(2):9-11,22
将平坦模的理想条件弱化为主零化子理想条件,给出了主零化子一平坦模的概念,推广了平坦模,并利用×和正合列讨论了主零化子-平坦模的等价刻画.同时从子模、直和与直积等方面讨论了主零化子一平坦模的性质. 相似文献
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王燕 《科技成果管理与研究》2013,(11):86-87
随着微电子技术进入65nm及以下技术节点.集成电路布线层数已达10层以上,布线间介质使用LowK介质。每层都必须进行化学机械抛光(CMP),使平整度达到纳米级、粗糙度达埃米级的光刻要求,需要低机械强度(1Psi以下)完成CMP,实现表面全局和局部的高平整、低粗糙度、低缺陷密度和高洁净度。多年来我国在多层铜布线以及ULSI硅衬底单晶片CMP技术专用材料方面长期受美、日控制和制约,而且目前占国际市场65%以上的酸性抛光液存在亟待解决的多项技术难题。 相似文献
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