Elsevier、IOP相继访问中国科学院半导体所

应中国科学院半导体所图书信息中心邀请，Elsevier出版公司中国地区代表处副总裁Paul Evans博士一行八人于6月9日访问了半导体所。     

富士施乐Docu Centre-Ⅱ C3000：降低彩色办公门槛

惠普公司的X2型打印头技术已被用于提高未来一代HP Scitex打印机的生产力、质量和可靠性。HP Scitex X2型打印头利用UV固化墨水，将用于半导体制造技术的硅基微机电系统（MEMS）与惠普创新的压电喷墨技术结合起来。其结果是诞生了这一高效率、高性能的打印头，以其由每一个墨滴所带来的杰出打印品质，为高速度、高质量打印供给高墨流量。     

迎接45纳米——45纳米上市前的感悟

11月16日,英特尔公司全球同步发布45纳米处理器新产品。11月15日,英特尔公司副总裁兼中国区总经理杨叙在他的博客上写下了自己的感悟。英特尔在中国就要发布45纳米处理器了,这是非常令人兴奋的事情。表面看起来,从数年前的90纳米到去年的65纳米,再到现在的45纳米,好像一切顺理成章。其实这次45纳米发布很不简单!在与英特尔的技术专家和工程师们深入接触后,我深刻感悟到:即将推出的45纳米Penryn处理器,是处理器技术的一次重大飞跃。     

迎接45纳米

11月16日,英特尔公司全球同步发布创新的45纳米High-K制程技术及处理器新产品。戈登·摩尔先生给予了这项技术极高的评价:"采用High-K栅介质和金属栅极材料,是自上世纪60年代晚期推出多晶硅栅极金属氧化物半导体(MOS)晶体管以来,晶体管技术领域里最重大的突破!"45纳米的技术突破是怎样实现的呢?首先是创造性地使用了全新半导体材料。芯片上晶体管的密度越来越高,管脚距离只有几个原子那么宽,为了保证不漏电,英特尔45纳米技术使用了基于铪的高-k栅介质和金属栅极晶体管材料,一改使用了近40年的多晶硅栅极金属氧化物半导体材料,在取得更高运算性能的同时,极大减少了漏电,从而功耗进一步下降,芯片散热问题也得到极大改善。这项改进如果没有发现铪材料是不可能实现的。这是对于晶体管材料技术在50年前半导体材料发明以来最大的一个突破,这是非常难以置信的。正是High-K这项技术创新再次延续了摩尔定律,使之在未来10年继续有效。     

让摩尔定律继续伟大

以铪替代硅为起点的变革是一个开始,它将引燃IT产业的另外一场战争。在第一声枪响过后,没有人能不卷入这场战争。在这场战争中,摩尔定律将继续伟大。     

创新无止境

据说,在美国硅谷这个以研发、生产半导体集成电路和电子计算机为主业的地方,聚集了一大群在外人的眼里是疯子、精神病患者等"社会边缘人",他们的言行、思维等等与世俗格格不入,常常标新立异,甚至是离经叛道。