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专家简介:胡志高,华东师范大学信息科学技术学院电子工程系副系主任,博士生导师。研究领域近年来主要集中在铁电薄膜材料、导电金属氧化物薄膜以及氧化物半导体材料的光电特性研究方面。在PRB、APL以及JAP等著名期刊上发表SCI收录国际学术刊物论文100多篇(其中影响因子3.0以上有35篇)他引200多次。出版国际英文学术专著章节3章。2007年入选上海市"浦江人才计划",2008年入选教育部 相似文献
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简述了X射线衍射(X-Ray Diffraction,XRD)的基本原理,计算了硅晶体的消光特性,从理论上研究了Si基薄膜XRD表征的特征.研究结果表明:由于薄膜的择优生长,Si基薄膜XRD谱与粉晶XRD谱存在差异;并可能观测到Si基片的二级衍射峰.研究结果在实际应用中对分析硅基薄膜的晶体结构具有重要意义. 相似文献
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对Ag金属颗粒镶嵌在SiOx陶瓷基体中形成的金属陶瓷薄膜光学常数的尺度效应进行了研究。用修正的M-G(Maxwell-Gannett)理论对Ag-SiOx金属陶瓷薄膜,在金属微粒体积百分比不同情况下光学常数的尺度效应进行了理论计算,并将理论计算结果与Evans的实验数据进行了比较。结果表明:金属微粒在低体积百分比(f1 25%)情况下,所用修正M-G理论计算金属陶瓷薄膜所得的光学常数更符合Evans的实验数据。从而得到金属陶瓷薄膜光学常数微尺度效应的最佳修正因子,为实际研制开发新型薄膜材料提供科学的分析方法。 相似文献
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Dislocation dynamics simulations are performed to investigate the effect of template shape on the nanoimprinting of metal layers. To this end, metal thin films are imprinted by a rigid template made of an array of equispaced indenters of various shapes, i.e., rectangular, wedge, and circular. The geometry of the indenters is chosen such that the contact area is approximately the same at the final imprinting depth. Results show that, for all template shapes, the final patterns strongly depend on the dislocation activity, and that each imprint differs from the neighboring ones. Large material pile ups appear between the imprints, such that polishing of the metal layer is suggested for application of the patterns in electronics. Rectangular indenters require the lowest imprinting force and achieve the deepest retained imprints. 相似文献
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L10结构的CoPt合金薄膜具有高磁晶各向异性能,能够满足超高磁记录的要求,极有可能成为下一代超高密度磁存储介质。详细介绍了CoPt薄膜近年来的研究成果,分析了降低CoPt退火温度和减弱晶粒间交换耦合作用的方法,并对其应用前景作了分析。 相似文献
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采用脉冲激光沉积方法,以烧结的Fe3O4为靶材,在STO(100)基底上制备了Fe3O4(100)薄膜。XRD和AFM显示薄膜为纯相外延单晶薄膜、表面较平整。对薄膜的磁电阻进行测量,薄膜为负磁电阻,且在Verwey转变温度(约120K)时磁电阻最大。霍尔效应测量得到薄膜中栽流子浓度随着温度的降低而减小,In(n)与I/T基本呈线性关系,符合半导体热激活模型,迁移率随着温度的降低而减小,说明在薄膜内存在大量电离杂质中心。薄膜磁滞回线中较高的饱和磁化场。说明薄膜中APBs密度较低。 相似文献