无机高分子混凝剂聚硅硫酸盐的制备

无机高分子絮凝剂是城市用水和工业废水处理的有效药剂。在研究聚合硫酸铁(PFS)合成工艺的基础上,设计出一套合成无机高分子混凝剂聚硅硫酸铁(PSPFS)和聚硅硫酸铝铁(PSAFS)的方法。采用正交试验法,通过模拟浊水的混凝试验,确定Fe/Si摩尔比、Na2SiO3.9H2O溶液聚合时间、反应时间、反应温度和Al/Si摩尔比等最佳参数。     

真空退火对La0.7Ca0.3MnO3外延薄膜输运特性的影响

在温度300-600℃及2×10-4-1×10-3Torr的氧压下,对脉冲激光烧蚀生成的La0.7Ca0.3MnO3(LCMO)薄膜进行退火.无论是经原位或异位退火处理后的LCMO薄膜,其金属-半导体电阻-温度(R-T)特性曲线及转变温度均会发生明显的改变.薄膜氧含量对其输运特性有突出的影响.     

动态膜压仪在有序分子薄膜体系研究中的应用

应用动态膜压仪测定单分子膜在亚相上的表面压π,表面张力γ以及膜的崩溃压。研究两亲分子在亚相上铺展成膜的状态及其规律,为有序单分子薄膜的制备及成膜过程的研究提供了依据。     

薄膜结构最优化裁剪分析

用最优化理论提出一种新的薄膜结构裁剪方法，并用Ｂ样条曲线对裁剪图边界进行光滑处理，提高了裁剪分析的精度．最后给出了一个张拉式薄膜结构裁剪分析实例．     

Ti-50．9at％Ni薄膜组织和相转变的研究

采用磁控溅射方法在Si片沉积了Ti-50．9at％Ni形状记忆合金薄膜,并将薄膜分别在不同温度下进行退火．利用示差扫描量热方法（DSC）、X射线衍射仪（XRD）、透射电镜（TEM）研究了薄膜退火前后形貌、相变特征及应力随退火温度的变化．实验结果表明：溅射态薄膜为非晶态,其晶化温度范围为430℃-535℃,晶化同时伴随着Ti3Ni4相的析出;退火后的薄膜随着退火温度的升高,Rs、Af、Ms均呈上升趋势．薄膜的残余应力随着退火温度的增加而逐渐减少．     

基于Matlab GUI的薄膜干涉仿真

为动态反映薄膜干涉图样随波长和干涉装置的几何参数的改变而产生的变化,利用Matlab图形用户界面的设计和开发功能,结合真实的可见光谱,制作了劈尖干涉、牛顿环干涉以及迈克尔逊干涉的交互式图形仿真界面.仿真结果图形细致逼真,使该过程的物理规律直观形象,有助于学生理解这几种典型薄膜干涉过程中的物理规律.     

学人风采

郑燕玉教授 郑燕玉博士（1966--）,女,福建省永春县人。I988年毕业于华东师范大学化学系,2004年9月－2008年6月攻读福建师范大学高分子化学与物理专业博士,获得理学博士学位,     

超薄膜Si外延生长过程的动力学蒙特卡罗模拟

建立超薄膜Si外延生长的晶格一动力学蒙特卡罗模型,并应用该模型模拟了Si原子在Si（111）基底上外延生长的过程．系统研究了沉积时间、基片温度对于薄膜初始生长形貌的影响,如影响粒子的扩散与凝聚、岛的生长等微观过程．     

Dependence of electrical and optical properties of IGZO films on oxygen flow

Amorphous InGaZnO (a-IGZO) films were deposited on the corning eagle XG (EXG) glass substrates using magnetron sputtering method. The structure, surface morphology, electrical and optical properties of these films were investigated by X-ray diffraction (XRD), scanning electron microscopy (SEM), semiconductor parameter analyzer and spectrophotometry, respectively. The influence of oxygen flow on the electrical properties of IGZO thin films was studied, showing that increasing oxygen flow changes the resistivity with six orders of magnitude. The contact resistance of ITO/IGZO is 7.35×10⁻² Ω·cm², which suggests that a good ohmic contact exists between In₂O₃: Sn (ITO) and IGZO film.     

Ni（2＋）掺杂对TiO2薄膜光催化性能和亲水性的影响

采用sol-gel法制备了锐钛矿型TiO2薄膜与Ni2＋掺杂TiO2薄膜。通过XRD、AFM表征了薄膜的晶相和形貌特征,用接触角测定仪测定接触角以评估薄膜的亲水性,以甲基橙作为有机污染物研究了薄膜的光催化性能。实验结果发现：少量Ni2＋掺杂提高了TiO2薄膜的亲水性和光致亲水性。但Ni2＋掺杂却使TiO2光催化性能有所降低。结果表明,TiO2薄膜表面的光致亲水性与光催化特性无正相关性。