γ′-(Fe_(1-x)Ni_x)_4N粉末的制备及其结构与磁性研究

用化学共沉淀法和在NH3/H2气氛下氮化处理得到了一系列不同Ni含量的Fe-Ni-N多晶粉末。分别用X射线衍射(X-ray Diffraction XRD)和振动样品磁强计(Vibrating Sample MagnetometerVSM)做了结构和磁性的测量。结果表明:制备单相γ′-(Fe1-xNix)4N粉末与NH3/H2气流比、热处理温度以及时间有关。随着Ni含量的增加,材料的晶格常数逐渐减小;饱和磁化强度(Ms)随着Ni含量的增加而下降,矫顽力(Hc)的变化比较复杂。Ni含量在0.20~0.26之间较容易得到单相的γ′-(Fe1-xNix)4N粉末,并且有较高的磁性。计算了Fe0.99Ni0.01N多晶粉末的饱和磁化强度,结果与实验值很接近。     

γ′（Fe1-xNix）4N粉末的制备及其结构与磁性研究

用化学共沉淀法和在NH3／H2气氛下氮化处理得到了一系列不同Ni含量的Fe-Ni-N多晶粉末。分别用X射线衍射（X-ray DiffractionXRD）和振动样品磁强计（VibratingSampleMagnetometerVSM）做了结构和磁性的测量。结果表明：制备单相γ′（Fe1-xNix）4N粉末与NH3／H2气流比、热处理温度以及时间有关。随着Ni含量的增加，材料的晶格常数逐渐减小；饱和磁化强度（Ms）随着Ni含量的增加而下降，矫顽力（Hc）的变化比较复杂。Ni含量在0．20～0．26之间较容易得到单相的γ′（Fe1-xNix）4N粉末，并且有较高的磁性。计算了Fe0.99Ni0.91N多晶粉末的饱和磁化强度，结果与实验值很接近。     

溅射气压对Ti/Al多层膜结构和热稳定性的影响

为研究Ti/Al多层膜的结构和热稳定性与溅射气压的关系,采用对向靶直流磁控溅射法在0.5、2.0 Pa的溅射气压下制备了Ti/Al软X射线光学多层膜(Λ=9.25 nm,Г=0.3,N=20),并采用低角度X射线衍射、高角度X射线衍射和原子力显微镜对其结构和热稳定性进行表征.发现:低溅射气压(0.5 Pa)下制备的多层膜具有相对高质量、有序的结晶层,导致了相对较小的表面粗糙度,热稳定性好;高溅射气压(2.0 Pa)下制备的多层膜周期性结构相对较差,晶向较为无序,表面粗糙度较大,结构热稳定性差.可见,Ti/Al多层膜的结构和热稳定性是溅射气压的函数,低溅射气压下制备的多层膜会获得更好的结构和热稳定性.     

γ''-(Fe1-xNix)4N粉末的制备及其结构与磁性研究

用化学共沉淀法和在NH3/H2气氛下氮化处理得到了一系列不同Ni含量的Fe-Ni-N多晶粉末.分别用X射线衍射(X-ray Diffraction XRD)和振动样品磁强计(Vibrating Sample Magnetometer VSM)做了结构和磁性的测量.结果表明:制备单相γ'-(Fe1-xNix)4N粉末与NH3/H2气流比、热处理温度以及时间有关.随着Ni含量的增加,材料的晶格常数逐渐减小;饱和磁化强度(Ms)随着Ni含量的增加而下降,矫顽力(Hc)的变化比较复杂.Ni含量在0.20～0.26之间较容易得到单相的γ'-(Fe1-xNix)4N粉末,并且有较高的磁性.计算了Fe0.99Ni0.01N多晶粉末的饱和磁化强度,结果与实验值很接近.     

Mo/Al软X射线光学多层膜的结构及其热稳定性

利用四对靶溅射的方法制备了Mo/Al光学多层膜,通过X射线小角度掠射法（LAXD）、断面高分辨透射电镜（HREM）以及透射电镜（TEM）等分析手段,研究了该薄膜在在制备态及不同的退火温度下微结构及其热稳定性.结果表明：在制备态下,Mo和Al都为多晶结构,界面的混合层厚度与生长顺序有关系,不对称.随着退火温度的升高,多层膜呈现出周期延展,伴随峰增加.550℃以下,周期延展和出现了6级布拉格峰分别归结于晶粒的长大和退火增强了层间相关程度;550℃时,出现了Al-Mo非晶合金,有意思的是此时多层膜的界面粗糙度并没有增加,周期膨胀与450℃时候基本一致,仅层厚比发生了变化.而600℃时候,多层膜的周期结构则被完全破坏.