基于PLC的Low-E玻璃磁控溅射真空控制系统

针对Low-E玻璃在磁控溅射过程中镀膜腔体真空度小于5×10~(-6)mbar的要求,本文提出一种基于PLC控制泵组运行策略的抽真空方法,采用S7-400PLC作为控制系统主体,Wincc平台作为过程监视系统,真空规对腔体内的真空度信号进行采集并反馈到PLC内部,控制泵组按一定顺序启动。实际应用表明该控制系统能够达到生产Low-E玻璃所需真空环境的标准,并且运行稳定,保障了磁控溅射区域真空度的稳定性。