三氧化钨纳米线的制备及其光催化性能

以Na2WO4·2H2O和HCl为原料,采用水热法合成了WO3,并用x射线粉末衍射（XRD）、扫描电镜（SEM）、紫外漫反射（uV—Vis）、电子能量分散谱（EDS）和激光拉曼光谱（Raman）测试手段对样品进行表征。测试结果表明,Na2SO4作为添加剂时水热合成的产物皆为六方相三氧化钨纳米线,其粗细和长短略有差异,不同浓度的Na2SO4对产品晶型和形貌无影响,但影响其晶粒尺寸,其中0．125MNa2SO4所得六方相WO3纳米线的尺寸最小,平均直径约为5nm,长度约为1um,并具有最佳的光催化活性,可见光（≥420nm）照射150min罗丹明B溶液后的降解率达96．01％。     

锂掺杂三氧化钨薄膜结构与色变性能的研究

三氧化钨是电致变色材料中最具特色的一种物质,为了满足实际应用的需要,常通过掺杂来改进三氧化钨电致变色薄膜的性能.本实验采用高氯酸锂作为掺杂剂进行锂掺杂,实验结果表明:进行锂掺杂后,薄膜的结构、色变响应性能得到了很大的提升.最后通过实验进行比较,得出了该方法中锂掺杂的最佳量.     

WO3-TiO2复合催化剂对Cr(Ⅵ)离子的光催化还原的探讨

以TiO2和WO3粉末研磨混合体作为催化剂，在酸性条件下，不同浓度的Cr（Ⅵ）离子光还原过程符合零级动力学模型．水杨酸的加入对Cr（Ⅵ）离子光催化还原有较大的促进作用．在强酸性和水杨酸存在条件下，TiO2-WO3复合催化剂对Cr（Ⅵ）的光催化还原的动力学模型依然符合表面催化反应的零级反应．     

溶胶凝胶制备的纯和铂搀杂三氧化钨膜的一氧化氮气敏特性

用溶胶凝胶浸渍技术在三氧化二铝基片上制备了纯和 (m(Pt) :m(WO3 ) =0 .3% )铂搀杂的三氧化钨膜 .测量和比较了 4 5 0 - 85 0℃温度范围内不同退火温度的纯和铂搀杂三氧化钨膜的电阻 ,理想的退火温度为 6 5 0℃ .纯三氧化钨膜的理想工作温度为 35 0℃ ,对 4 0× 10 - 6一氧化氮的灵敏度为 8.9;铂搀杂三氧化钨膜的理想工作温度为 2 5 0℃ ,对 4 0× 10 - 6一氧化氮的灵敏度为 114.0 .实验结果显示溶胶凝胶制备的铂搀杂三氧化钨膜对一氧化氮具有高的灵敏度 ,低的工作温度 ,快速和可重复的响应     

辛可宁重量法测定三氧化钨试样分解方法的改进研究

研究以无水碳酸钠与硝酸钾按一定配比组成碱金属混合熔剂,采用半熔烧结法高温熔融分解钨矿试样,改进了辛可宁重量法测定三氧化钨试样的分解方法。实验证明,较常用的酸溶法分解试样更加简便快捷,试样也更容易彻底分解。     

SiO2-WO3纳米粉体的掺杂合成研究

用沉淀法制得SiO2-WO3纳米粉体,按不同比例进行掺杂,对其进行了XRD物相分析,以TEM观察其形貌并测得平均粒径,结果表明,沉淀法可获得单斜晶系和三斜晶系共存的WO3纳米粉体,晶粒尺寸随SiO2掺杂量增加而减小,所得粉体粒径范围20-30 nm,粒度均匀.     

SiO_2-WO_3纳米材料的固相合成研究

用固相法制得了纳米级xwt%SiO2 +WO3(x =0 ,3,10 ,15 ,2 0 )的粉体材料 ,进行了XRD物相分析 ,以TEM观察其形貌并测得平均粒径。结果表明 :该方法可获得单斜晶系的WO3纳米粉体 ,晶粒尺寸随SiO2 掺杂量增加而减小 ,粉体粒径范围为 5 0nm～ 6 0nm。