镀膜双镜头多光谱相机的波段配准方法

针对镀膜双镜头多光谱相机波段多、数据量大、配准流程复杂的问题,提出一种基于改进SURF算法的快速配准方法。该方法首先完成对各波段图像的预处理,采用数字畸变模型采样法对各波段影像畸变进行校正;然后对畸变改正后的各波段图像利用快速版的SURF算法(F-SURF)进行配准。F-SURF算法从3个方面对原SURF算法进行改进,包括:依照匹配贡献度优化算法组数设置、舍弃算法旋转不变性以及引入渐进采样一致法进行特征点匹配等。通过地面及飞行实验数据进行算法验证,结果表明改进算法的配准精度优于经典SURF算法,且时间效率显著提升。     

直流磁控溅射的应用概述

磁控溅射是物相沉积镀膜中较为常用的一种方法。本文介绍了磁控溅射中比较基础的溅射方式——直流磁控溅射,说明了磁控溅射相对于其他物相沉积的优势以及工作原理,重点强调了直流磁控溅射的工作流程。     

TiN薄膜常压化学气相沉积及动力学研究

在玻璃基片温度400℃和650℃之间，讨论了TiCl4-NH3-N2体系TiN常压化学气相沉积（APCVD）及动力学。在500－650℃温度范围内。TiN在高温玻璃表面沉积为反应物扩散控制，低于400℃为表面反应控制，其沉积速度明显受玻璃温度，反应物浓度和气体流速影响。     

如何提升太阳能电池组件输出功率的研究

太阳能电池组件是直接将光能转换为电能的器件,如何增加组件封装玻璃的输入的光能,从而在光电转换的源头提高电池组件的输出功率是本文研究的课题。     

CSNS四极陶瓷真空盒镀膜系统真空数据采集程序设计

为减小真空盒内壁的二次电子发射系数,抑制潜在的e-p不稳定性,CSNS四极陶瓷真空盒内壁要进行TiN镀膜,整个过程真空度需要实时监控并定时记录,基于LabVIEW的真空数据采集程序的设计可以很好地解决这一问题。     

几种常用的光强调制原理分析与比较

对液晶调制、偏振片调制、基于晶体电光效应的调制和基于镀膜技术的调制四种光强调制方法进行了较为详尽的阐述,并客观分析了各自的优缺点,对实际应用中光强调制的选择有一定指导意义。     

正弦波输出的自适应中频镀膜电源设计

中频镀膜电源已广泛应用于镀膜领域。文中设计了一种以IGBT为功率器件的中频镀膜电源,主电路采用BuckDC-DC变换电路进行电压调整,中频输出电路采用全控型器件构成串联谐振式逆变电路,详细的分析设计了主电路以及控制电路。实验结果证明,中频正弦波电流输出工作在(30±5)kHz,具有功率调节范围宽、自动适应负载变化、高效率的特点。     

真空镀膜机控制系统的PLC改造

分析了ZD450型真空镀膜机的扩散油容易失效和真空计的电离规管容易损环的原因,设计了应用PLC对控制系统进行改造的方案.针对扩散油失效的原因是在关机前没有将真空室里的空气抽净,使扩散油高温氧化所致,增加了关机前的抽空冷却程序.针对电离规管灯丝烧断是由真空室里的压强未小于1×10~（-2）Pa时通电所致,增加了灯丝启动保护环节,并以FX_（2N）-4AD为A/D转换器作为真空测量机构代替真空计,提高了系统的自动化程度.     

资中县“产学研”一条龙实验项目专注“高新玻璃”

<正>本刊讯近日,资中县采用"产学研"一条龙实验项目建设,专注打造"高新玻璃"产业链。一是"产"量体现效益。投入5亿元,在资中新建LOW-E镀膜玻璃装备制造生产线、LOW-E镀膜玻璃生产线、热膜玻璃生产线、AR膜玻璃深加工生产线各1条,形成深加工镀膜玻璃100万平方米、热膜玻璃100万平方米、AR膜玻璃40万平方米的生产能力,实现年产值10亿元,利税9000万元,提供就业岗位500余个。     

磁控溅射镀膜技术的发展及应用

近年来,随着新材料的开发,尤其是薄膜材料的发展和应用,带动磁控溅射沉积技术的飞速发展,在科学研究领域和工业生产中有着不可替代的重要作用。本文主要介绍了磁控溅射沉积技术的工艺过程及其发展情况,各种主要磁控溅射镀膜技术的特点,并介绍磁控溅射技术在各个领域的主要应用。