磷钼杂多酸-聚吡咯薄膜修饰电极的研制及其电化学性能的研究 |
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引用本文: | 王升富.磷钼杂多酸-聚吡咯薄膜修饰电极的研制及其电化学性能的研究[J].黄冈师范学院学报,1995(3). |
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作者姓名: | 王升富 |
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作者单位: | Wang Shengfu(Huanggang Teachers College,Huangzhou 436100) |
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摘 要: | 采用电化学方法首次在导电基体玻碳电极上研制出磷钼杂多酸-聚吡咯薄膜修饰电极,其制备过程简便、快速,膜电极性能稳定、经久耐用;对膜电极的电化学性能进行了表征;探讨了电解质溶液、溶剂、pH值、扫速等因素对膜修饰电极伏安行为的影响;研究了膜修饰电极对氨酸根、溴酸根、碘酸根、三价铁离子、亚硝酸根、过氧化氢等物质的电催化还原作用.
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关 键 词: | 磷钼杂多酸 聚吡咯 化学修饰电极 电催化还原 碘酸根 |
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