不同生长模式对AlN薄膜质量的影响

采用传统生长模式和脉冲生长模式开展了蓝宝石衬底上AlN薄膜外延生长研究。通过XRD、透射谱、Raman等分析手段,研究了不同生长模式对AlN薄膜质量的影响,研究发现采用脉冲生长模式的样品与采用传统生长模式的样品相比,晶体质量显著地提高,AlNω(102)的FWHM从2093 arcsec减少到835 arcsec,有效的限制了深能级缺陷。由于采用脉冲生长模式样品中的位错密度较小,所以样品中的残余应力略有提高。研究结果表明脉冲生长模式能有效的提高蓝宝石衬底上AlN晶体质量。