|
|||||
|
|
| 平板式外延炉大尺寸硅外延层的均匀性调控 | |
| 引用本文： | 康军亮.平板式外延炉大尺寸硅外延层的均匀性调控[J].科技风,2019(9). |
| 作者姓名： | 康军亮 |
| 作者单位： | 河北普兴电子科技股份有限公司 |
| 摘 要： | 随着现代电子技术的飞速发展,电子元件的精细化程度也不断提高,加工工艺水平直接决定了电子元件的性能。本文结合平板式外延炉大尺寸硅外延层的均匀性调控展开研究,通过实验方法阐述150mm大尺寸硅抛光片硅外延层特征,分别展开厚度均匀性、电阻率均匀性两大部分的调控方法总结。 |
| 本文献已被 CNKI 等数据库收录！ | |