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| 二巯基噻二唑自组装对铜缓蚀行为研究 | |
| 引用本文： | 童耀斌,罗红群,李念兵.二巯基噻二唑自组装对铜缓蚀行为研究[J].科教文汇,2008(13):197-197. |
| 作者姓名： | 童耀斌 罗红群 李念兵 |
| 作者单位： | 西南大学化学化工学院,重庆400715 |
| 摘 要： | 本文采用电化学方法探讨了二巯基噻二唑（DMTD）自组装膜在3％NaCI溶液中对铜的缓蚀作用。实验表明二巯基噻二唑已经成功地组装到铜的表面，并具有良好的缓蚀作用。当二巯基噻二唑的浓度浓度均为1×10-2mol／L。组装时间为25h时的腐蚀电流最小，缓蚀效率最好。 |
| 关 键 词： | 二巯基噻二唑 铜电极 缓蚀 自组装膜 |
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