| （Ti,Al）N／W6Mo5Cr4V2膜基界面结构的电镜研究 |
| |
| 引用本文： | 王永康,夏立芳.（Ti,Al）N／W6Mo5Cr4V2膜基界面结构的电镜研究[J].科技通报,1993,9(6):384-387. |
| |
| 作者姓名： | 王永康 夏立芳 |
| |
| 作者单位： | 中国兵器工业五二研究所，中国兵器工业五二研究所，中国兵器工业五二研究所，哈尔滨工业大学，哈尔滨工业大学 宁波 315040，宁波 315040，宁波 315040 |
| |
| 摘 要： | 在W_6Mo_5Cr_4V_2型高速钢表面沉积了新型的(Ti,AI川ie层,用透射电镜等研究了(Ti,AI)N/W_5Mo_5Cr_4V_2膜基界面区结构.结果表明,其界面区有一过渡层,由α-Ti和FeTi相组成,且与基体有一定的位相关系。
|
| 关 键 词： | 物理气相沉积 涂层 高速钢 钛 氮 |
A Study of Interface Structure between(Ti,Al)N and W_6MO_5Cr_4V_2 by Transition Electron Microscopy |
| |
| Wang Yongkang,Research Institute.A Study of Interface Structure between(Ti,Al)N and W_6MO_5Cr_4V_2 by Transition Electron Microscopy[J].Bulletin of Science and Technology,1993,9(6):384-387. |
| |
| Authors: | Wang Yongkang Research Institute |
| |
| Institution: | Wang Yongkang 52 Research Institute |
| |
| Abstract: | |
| |
| Keywords: | PVD (Ti Al)N coating interface structure |
| 本文献已被 CNKI 维普 等数据库收录！ |
|
