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| 化学机械抛光中抛光垫技术专利文献综述 | |
| 引用本文： | 张宽.化学机械抛光中抛光垫技术专利文献综述[J].重庆电子工程职业学院学报,2016(4):149-150. |
| 作者姓名： | 张宽 |
| 作者单位： | 国家知识产权局专利局专利审查协作四川中心 |
| 摘 要： | 基于DWPI数据库,通过检索、统计和分析国内外CMP抛光垫技术专利申请文献,分析CMP抛光垫技术领域的研究现状,归纳总结CMP抛光技术的研究方向和研究结论,并展望CMP抛光垫技术的发展趋势。 |
| 关 键 词： | 抛光 化学机械 抛光垫 专利 |
| 本文献已被 CNKI 等数据库收录！ | |