| 表面活性剂在光度分析中应用的新进展 |
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| 引用本文： | 常世科,汤家华.表面活性剂在光度分析中应用的新进展[J].巢湖学院学报,2005,7(3):103-105. |
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| 作者姓名： | 常世科 汤家华 |
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| 作者单位： | 巢湖学院化学系,安徽,巢湖,238000 |
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| 摘 要： | 本文简略回顾了我国近五年来表面活性剂在光度分析中应用的新进展,介绍了表面活性剂在光度分析中一些新方法和新体系.通过对五种表面活性剂体系的介绍对表面活性剂在光度分析中应用的发展状况和趋势有个了解.
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| 关 键 词： | 光度分析 表面活性剂 应用 表面活性剂体系 光度分析 应用 Analysis 趋势 状况 发展 新体系 方法 近五年来 |
| 文章编号： | 1672-2868(2005)03-0103-03 |
| 修稿时间： | 2005年1月5日 |
The Develoment of the New Application of Presme in Photometric Analysis |
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| CHANG Shike,TANG Jiahua.The Develoment of the New Application of Presme in Photometric Analysis[J].Chaohu College Journal,2005,7(3):103-105. |
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| Authors: | CHANG Shike TANG Jiahua |
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| Abstract: | This paper reviews briefly the development of the new application of surfactant in photometric analysis in China over the past five years and discusses of new methods and approaches.through the discusses of five approaches, We will have an overall view of the state and tendency of the develoment of the application of surfactant in photometric analysis. |
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| Keywords: | photometric analysis surfactant application |
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