| 摘 要： | 美国国家能源部洛斯阿拉莫斯国家实验室的科学家宣布，他们已经开发出一种新型环保技术，可以大大减少生产电脑芯片和集成电路时所使用的腐蚀性物质，同时不会产生大量废水。
一般在生产芯片过程中，首先要使用高强光、强酸和光致抗蚀剂等腐蚀性物质来改变硅片外形，刻蚀出微型集成电路及芯片，然后再用大量溶媒和超级纯净水将芯片上残留的光致抗蚀剂等腐蚀性物质冲洗掉。美国一般的芯片制造工厂，平均每天要消耗数千加仑的硫酸和盐酸等腐蚀性物质，并产生400万加仑的废水，对环境造成了很大危害。
从正在召开的美国科学促进协会年会上获悉，洛斯阿拉莫斯国家实验室研制出的这种环保新技术名为SCORR。它是在高温高压下用超临界二氧化碳代替了溶媒和超级纯净水，这不仅降低了成本，也保护了环境。
该项目的负责人克雷格*泰勒说：“在高温高压下，超临界二氧化碳呈液态，可以起溶媒的作用，在少量其他溶媒的帮助下，能有效去除芯片上残留的光致抗蚀剂。当压力和温度下降后，超临界二氧化碳呈气态挥发，使硅芯片变得干燥无尘。"
据介绍，洛斯阿拉莫斯国家实验室开发的这项新型技术不会产生大量有害废物，因为它设计的封闭循环系统可以在处理过程中循环使用二氧化碳，并且不会向大气释放温室气体，而添加的少量其他溶媒也很容易分离出来，可以重新收集再使用。
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