| 溅射参数对FeSiAl薄膜磁性能的影响 |
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| 引用本文： | 张榕.溅射参数对FeSiAl薄膜磁性能的影响[J].上海海事大学学报,2004,25(4):89-92. |
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| 作者姓名： | 张榕 |
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| 作者单位： | 上海海事大学,基础教学部,上海,200135 |
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| 基金项目： | 上海海事大学青年骨干教师培养计划资助(025063) |
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| 摘 要： | 对在溅射状态下制得的FeSiAl薄膜的结构和磁性能随溅射工艺参数如溅射功率、溅射气压、靶间距等的变化规律进行了讨论与分析。实验结果表明,溅射态下的FeSiAl薄膜具有(220)织构bcc α无序相,其4πMs可以达到9.9×106A/m(9.9kGs)。较高的溅射功率、合适的溅射Ar气压以及靶间距都有利于降低薄膜的矫顽力Hc。
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| 关 键 词： | FeSiAl薄膜 直流磁控溅射 溅射功率 |
| 文章编号： | 1672-9498(2004)04-0089-04 |
| 修稿时间： | 2004年6月11日 |
Effect of sputtering parameters on properties of FeSiAl films |
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| ZHANG Rong.Effect of sputtering parameters on properties of FeSiAl films[J].Journal of Shanghai Maritime University,2004,25(4):89-92. |
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| Authors: | ZHANG Rong |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | FeSiAl film DC magnetron sputtering sputtering power |
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