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| 小线宽下显影过程对CD影响的研究 | |
| 引用本文： | 盛飞.小线宽下显影过程对CD影响的研究[J].中国科技纵横,2014(15):23-23. |
| 作者姓名： | 盛飞 |
| 作者单位： | 上海交通大学微电子学院,上海200240 |
| 摘 要： | 本文研究了小线宽情况下非曝光因素对CD的影响，发现显影过程会使CD产生5%的波动从而影响工艺稳定度。排除显影中烘烤对CD的影响，找出导致CD波动的主要因素为显影液的流量，并提出统一显影液流量以达到显影过程中对CD的精确控制。 |
| 关 键 词： | 光刻 显影 流量 |
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