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| 科技简讯 | |
| 摘 要： | 日本研发成功0.095微米技术 日本NEC公司日前宣布半导体制造技术的0.1微米工艺已被该公司突破。它在世界上率先研发成功的0.095微米的半导体工艺技术将应用于大规模集成电路，并且将于2001年5月推向市场。与以往采用0.13微米工艺技术制造的旧产品比较，采用0.095微米工艺技术制造的新产品的集成化程度提高了19倍，可以节省电能30％，并且能够获得1千兆赫的运行速度。这对于高速大容量通信系统和对节电要求很高的移动设备来说，具有极其重大的应用价值。因此，专家们认为，半导体工艺0.1微米的突破将对互联网的发展产生巨大的推动作用。… |
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