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二氧化硅分子三级中红外光谱研究
引用本文:于宏伟,张美环,赵毅哲.二氧化硅分子三级中红外光谱研究[J].保定学院学报,2022(6):109-116.
作者姓名:于宏伟  张美环  赵毅哲
作者单位:石家庄学院化工学院
基金项目:河北省高等学校科学技术研究项目“中药材忍冬农药残留及限度控制研究”(ZC2021250);
摘    要:采用中红外(MIR)光谱技术开展了二氧化硅分子结构研究.红外光谱测试结果表明:二氧化硅分子红外吸收模式主要包括 νas Si-O-二氧化硅、νs Si-O-二氧化硅和 ν结晶-二氧化硅等.进一步开展了二氧化硅分子的变温中红外(TD-MIR)光谱研究.实验发现:在 303~573 K 的温度范围内,二氧化硅分子主要官能团的吸收峰强度及频率均有改变.采用二维中红外(2D-MIR)光谱进一步研究了二氧化硅分子主要官能团吸收峰对于热的敏感程度及变化快慢的信息.本项研究拓展了三级中红外光谱在重要的无机矿物盐(二氧化硅)结构及热变性的研究范围.

关 键 词:二氧化硅  中红外光谱  变温中红外光谱  二维中红外光谱  热变性
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