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| 域外科技 | |
| 作者单位： | |
| 摘 要： | EUVL极端远紫外光刻工艺是Extreme Ultraviolet Lithography的缩写,被业界一致认为是下一代芯片工艺的核心技术。也有人认为,摩尔定律是否能够续写,EUVL技术的成败将是关键之一。 芯片工业的本质被摩尔定律描述得非常准确。用更通俗的话讲,整个芯片工业这二三 |
域外科技 |
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| Abstract: | |
| Keywords: | |
| 本文献已被 CNKI 万方数据 等数据库收录！ | |
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