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光刻技术的超常领域
引用本文:
何景瓷.光刻技术的超常领域[J].九江职业技术学院学报,2001,2(2):20-21.
作者姓名:
何景瓷
摘 要:
本文着重对缝隙天线阵面的光刻技术进行了分析,对光刻技术方法研制缝隙天线阵面的技术途径、工艺实验的结果和存在的主要问题进行了论述。毫米波主动导引头缝隙天线阵面,具有面积大、缝隙多、精度高的特点,制造这样的缝隙天线阵面,在国内尚属首次。
关 键 词:
光刻技术
缝隙天线阵面
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