| 对靶磁控溅射Co/TiO_2薄膜制备和表征 |
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| 引用本文： | 贾利云,许佳玲,李晨璞,胡金江,刘超,曲蛟.对靶磁控溅射Co/TiO_2薄膜制备和表征[J].实验室研究与探索,2013,32(6):12-15. |
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| 作者姓名： | 贾利云 许佳玲 李晨璞 胡金江 刘超 曲蛟 |
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| 作者单位： | 河北建筑工程学院,河北张家口,075000 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金项目，河北省科技厅项目，张家口市指导计划项目 |
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| 摘 要： | 为了研究稀磁半导体Co/TiO2薄膜的微观结构和磁性,进一步探讨制备工艺和测量方法对稀磁半导体薄膜材料的影响。通过高真空对靶直流磁控溅射装置和原位退火工艺制备了Co/TiO2薄膜样品,然后利用扫描探针显微镜、振动样品磁强计和X射线衍射仪对所制得的薄膜样品的磁性和微结构进行了研究,发现磁性金属Co的掺杂量对Co/TiO2薄膜的结构及磁性有重要影响。结果表明:样品的表面粗糙度和颗粒尺寸随磁性金属含量升高而增大;随着Co百分含量的升高,形成的薄膜样品Co/TiO2和Co金属混合结构会减小矫顽力;对于Co含量较低样品其磁滞回线的斜率在低温测量时得到的结果明显小于室温环境的结果,归因于受到了顺磁相的影响。由X射线衍射结果可知此时样品为锐钛矿结构。
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| 关 键 词： | 稀磁半导体 磁性 微结构 对靶磁控溅射 |
Preparation and Characterization of Facing-target Magnetron Sputtering Co/TiO2 Films |
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| JIA Li-yun
,
XU Jia-ling
,
LI Chen-pu
,
HU Jin-jiang
,
LIU Chao
,
QU Jiao.Preparation and Characterization of Facing-target Magnetron Sputtering Co/TiO2 Films[J].Laboratory Research and Exploration,2013,32(6):12-15. |
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| Authors: | JIA Li-yun XU Jia-ling LI Chen-pu HU Jin-jiang LIU Chao QU Jiao |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | diluted magnetic semiconductors magnetic properties microstructure facing-target magnetron sputtering |
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