磁控溅射法制备氧化镓薄膜 |
| |
作者姓名: | 宋歌 |
| |
作者单位: | 浙江大学,浙江·杭州,310027 |
| |
摘 要: | 随着半导体光电技术的日益发展,宽禁带透明导电氧化物薄膜已经成为半导体材料研究的热点之一。氧化镓薄膜具有结构简单、成本低廉、响应快、便于制造的优点,而且还有很高的化学稳定性。它作为一种新型的气体传感器材料近年来日益受到重视。本文研究了通过磁控溅射法制备氧化镓薄膜时,不同的热处理温度对氧化镓薄膜结晶质量的影响。并利用X射线衍射仪,紫外可见透射光谱,对氧化镓薄膜的结构性能及表面形貌进行了测试和分析。
|
关 键 词: | 氧化镓薄膜 磁控溅射 热处理温度 |
文章编号: | 1009-8534(2007)02-0126-02 |
修稿时间: | 2007-02-14 |
本文献已被 CNKI 维普 万方数据 等数据库收录! |
|