|
|||||
|
|
| 深亚微米刻蚀与等离子体源 | |
| 作者姓名： | 吴汉明 |
| 作者单位： | 中国科学院力学研究所,北京100080 |
| 摘 要： | 讨论等离子体刻蚀及其等离子体源在微电子工业中的作用,介绍四种高效等离子体源,并讨论这一领域亟待解决的问题。 |
| 关 键 词： | 等离子体源 亚微米刻蚀 挑战性问题 |
| 本文献已被 维普 等数据库收录！ | |
| 点击此处可从《中国科学基金》浏览原始摘要信息 | |
| 点击此处可从《中国科学基金》下载全文 | |
|
||||||||||||||||||||||
|
||||||||||||||||||||||
|
||||||||||||||||||||||
|
|
|
|
| 设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏 |
|
Copyright©北京勤云科技发展有限公司 京ICP备09084417号 |