首页 | 本学科首页   官方微博 | 高级检索  
     检索      

二模磁场中随机晶场作用混合自旋横向Ising模型的临界行为
引用本文:丁直,晏世雷.二模磁场中随机晶场作用混合自旋横向Ising模型的临界行为[J].常熟理工学院学报,2013(4):29-34.
作者姓名:丁直  晏世雷
作者单位:苏州大学物理科学与技术学院
基金项目:江苏省高校优势学科建设工程资助项目(YK40000112)
摘    要:在有效场理论和切断近似的框架内,研究了二模磁场中随机晶场作用的混合自旋横向Ising模型的临界行为.在T-h相图中,晶场浓度对有序相的影响需要将二模磁场分段考虑;大的晶场和适当的晶场浓度有利于二级重入相变现象;但横场对三临界点的作用值得更多研究.在T-D相图中,负晶场比例较大降低有序相,正晶场比例较大增大有序相;强二模磁场和横场都抑制有序相,但强二模磁场有利于三临界点的出现,而横场抑制三临界点.在T-Ω相图中,晶场和晶场浓度对有序相范围有显著影响.

关 键 词:混合自旋横向Ising模型  临界行为  随机晶场  二模磁场
本文献已被 CNKI 等数据库收录!
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司  京ICP备09084417号