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| 氢氧化钾乙醇溶液去除刻蚀后光刻胶 | |
| 作者姓名： | 宋超 刘榕 王江波 |
| 作者单位： | 华灿光电股份有限公司,湖北武汉 430223 |
| 摘 要： | 采用氢氧化钾乙醇溶液对刻蚀后光刻胶进行了清洗,结果表明,氢氧化钾乙醇溶液能够很好的去除掉刻蚀后的光刻胶,满足生产要求。 |
| 关 键 词： | 氢氧化钾 乙醇 ICP刻蚀 去胶 |
| 本文献已被 CNKI 万方数据 等数据库收录！ | |
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